以下内容是对PVD镀膜材料种类及对应工作原理的简单介绍。
溅射镀膜是指利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度的离子束流， 轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基 板材料表面的技术。被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜材料的原材料，称为溅射靶材。溅射 靶材主要由靶坯、背板（或背管）等部分构成，靶坯是高速离子束流轰击的目标材料，属于 溅射靶材的核心部分。溅射镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得 厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已 成为制备薄膜材料的主要技术之一，各种类型的溅射薄膜材料已得到广泛的应用，溅射靶材 是目前市场应用量最大的 PVD 镀膜材料。
真空蒸发镀膜是指在真空条件下，利用膜材加热装置（称为蒸发源）的热能，通过加热蒸发 某种物质使其沉积在基板材料表面的一种沉积技术。被蒸发的物质是用真空蒸发镀膜法沉积 薄膜材料的原材料，称之为蒸镀材料。真空蒸发镀膜技术具有简单便利、操作方便、成膜速 度快等特点，主要应用于小尺寸基板材料的镀膜。
