由于不同设备技术特点差异较大，因此不同设备中不同种类零部件成本的占比差异较大。
机械类零部件应用最为广泛，在设备成本中占比最高。由于各种腔体、接头、泵等机械类零部件起到关键的支 撑、传输、控制等作用，因此在湿法与干法设备中应用最为广泛，根据拓荆科技/华海清科/屹唐/盛美上海的零 部件采购比例，机械类零部件在采购成本中占比均为 30%+；
电气类零部件必不可少，在等离子体设备中应用比例大大提高。电气类零部件包括射频电源、射频匹配器等， 由于设备几乎均需要通电使用，因此电气类零部件也必不可少。在等离子体相关的设备，如 PECVD、等离子体 刻蚀机中，需要在电感线圈上施加高频信号，进而在电感线圈内部感应出电场，加速等离子体中的电子至更高 的能量，因此电气类作用更为关键，例如拓荆科技电气类采购比例为 27%，远高于华海清科、盛美上海等其他 非等离子体设备厂商；
气体/液体元件在湿法设备中占比更高。常见的气体元件包括气柜、气体管路等，用于各种需要通气的设备中； 液路元件包括阀门、流量控制器等，用于控制液体的流量等。例如，盛美上海采用兆声波清洗技术，工作原理 是通过兆声波在传输的液体介质中产生周期性的压缩或拉伸，液体会被拉开形成一个空穴，液体中溶解的气体 向空穴中扩散，进而产生显著的清洗效果；华海清科 CMP 设备也是湿法设备的一种，工作原理是晶圆表面材料 与研磨液发生化学反应，在抛光头的作用下进行抛光，关键在于研磨液和抛光头的选择。因此华海清科和盛美 的气体/液路元件占比远高于拓荆科技、屹唐股份等以干法设备为主的厂商；
真空系统用于含真空腔的设备中。部分设备如 PECVD，在应用场景中需要保持真空状态，因此会配备真空腔， 拓荆科技 21Q1-Q3 真空系统占比大约 7%，而由于华海清科 CMP 设备不配备真空腔，因此不需要真空系统相 关零部件；
输送系统：用于晶圆、气体输送等，干法/湿法设备均广泛应用。常见的输送系统零部件包括机械手等，虽然不 参与晶圆相关的反应，但由于对晶圆生产效率产生重要影响，因此广泛应用；
光学零部件：包括透镜等，主要用于光刻、量测设备等特定场景，在其他干法/湿法设备中使用较少。
