平台化布局享受时代红利，各细分领域竞争力突出。
1.1 刻蚀机：ICP 设备竞争力突出，积极拓展CCP 领域
国内领先刻蚀设备供应商，深耕刻蚀技术二十余年。公司自2001 年起研发ICP刻蚀设备，2005 年实现首台设备量产，成为国内技术领先的刻蚀机制造商。目前，公司产品覆盖 12 英寸硅、金属和介质刻蚀机，用于逻辑、存储、功率和先进封装等领域，已有超过 2000 腔产品在数十家客户端实现量产应用。截至2023年，公司刻蚀设备收入近 60 亿元，占总营收的 27%，市场份额约11%，累计出货超过3500腔。
ICP 刻蚀机：公司专注于 ICP 刻蚀技术，成功攻克了电感耦合脉冲等离子体源、多温区静电卡盘、双层结构防护涂层等关键技术。目前，14nmICP刻蚀设备已在客户端得到验证并实现量产。近年来，公司ICP 刻蚀设备出货量快速增长，2022 年累计出货超过 2000 腔，2023 年累计超过3200 腔。
CCP 刻蚀机：2021 年，公司开始着力进行 CCP 刻蚀设备研发，目前已完成硅刻蚀、金属刻蚀、介质刻蚀全面覆盖，其中 CCP 8 英寸设备已批量供应市场，12英寸设备已进入客户端验证。截至 2023 年底，公司已累计出货超100腔CCP刻蚀设备。
设备获主流晶圆厂订单，认可度较高。根据采招网数据，2023 年1月至今，公司刻蚀设备在华虹制造、积塔半导体的中标率分别为10.6%和41.7%。
1.2 薄膜沉积设备：PVD 工艺国内领先，CVD 多款产品取得良好进展
国产 PVD 设备龙头，CVD 设备亦有布局。公司早期主要从事PVD设备开发，在国内处于领先位置，目前正积极拓展 CVD 及 ALD 设备。2023 年，公司薄膜沉积设备收入超 60 亿元，占总营收的 27%，市场份额约为11%。
PVD 设备：自 2008 年起，公司专注于 PVD 设备的研发，成功攻克了磁控溅射源设计等多项核心技术，全面覆盖逻辑芯片和存储芯片的金属化制程。在集成电路领域，铜互连、铝垫层、金属硬掩膜、金属栅和硅化物等设备已实现稳定量产，并广泛应用于多家晶圆厂的逻辑和存储主流产线。此外，公司PVD设备在功率半导体、先进封装、新型显示、化合物半导体等领域也取得了量产成果。截至 2023 年，公司已推出 40 余款 PVD 设备，累计出货超过3500 腔。
CVD 设备：公司在 PECVD、ALD 和 LPCVD 等产品上取得显著进展。其中，LPCVD 设备已实现批量供货，尤其在大尺寸硅片兼容性和高载片量方面有所突破。此外，公司自主研发的 12 英寸高介常数原子层沉积设备Scalar HK430于2024 年已稳定量产，并获得批量订单，市占率持续上升，标志着公司CVD先进工艺设备解决方案的成功应用。截至 2023 年，公司已量产30 余款CVD产品，为 50 多家客户提供技术支持，累计出货超过 1000 腔。
根据采招网数据，2023 年 1 月至今，公司 PVD 设备在华虹制造的中标率为24%，位居领先地位。而 CVD 设备目前仍在积极拓展阶段，国内市场主要由拓荆科技主导。
公司电子元器件业务以七星电子为平台，由国营706、707、718、797、798多家专业电子元器件生产单位整合而成，具有 60 余年电子专用设备及电子元器件制造经验，当前由北方华创子公司北京七星华创精密承担。公司研发的电源管理芯片、石英晶体器件、石英微机电传感器、高精密电阻器、钽电容器、微波组件等产品，被广泛应用于自动控制、电力电子、精密仪器仪表、铁路交通等领域，是国内高端电子元器件骨干企业。
公司电子元器件稳定增长，盈利水平维持高位。收入端，2019-2023年，七星华创精密电子营业收入 CAGR 30.2%，2023 年实现收入24.33 亿元，同比-5.5%,主要系经济环境及行业需求调整等因素影响，元器件市场需求放缓，公司产品销量有所下滑。利润端，2019-2023 年，七星华创精密电子净利润CAGR 37.2%，高于收入增速，2023 年实现净利润 8.57 亿元，同比-17.74%。盈利能力方面，受益于部分产品在电动控制等特种行业的应用，以及持续推出的高精尖新品，公司精密电子元器件过去五年毛利率、净利润率中枢分别为 67%、34%，持续保持较高水平。
