千亿市场高速增长，一超两强三分天下。
2023 年光刻机市场规模 257 亿美元，占晶圆生产设备总市场的24%。光刻机市场前三大供应商（荷兰阿斯麦 ASML、日本佳能 Canon、日本尼康Nikon）占据了绝大多数市场份额，2011-2023 年，三大供应商的光刻机营收合计由89 亿美元增长至 257 亿美元，对应 CAGR 为 9.2%。 目前在半导体设备细分市场中，光刻机设备在半导体设备总市场的24%，为市场占比最大的细分设备。近年来，光刻机市场在半导体总市场中的占比持续提升。尽管目前已有部分晶圆厂调整未来资本开支，但考虑光刻机交期长、战略意义高，预计 2025 年光刻机市场需求依然维持高位。根据Market Intelligence，预计2022-2028 年全球光刻机市场规模 CAGR 有望达到 6%。
光刻机的出货量与营收稳步提升。ASML、Canon、Nikon 三大光刻机供应商占据了绝大多数市场份额，出货量稳步提升，从 2019 年的359 台增长至2023年的667台 ， CAGR 达 16.75% ， 其 中 ASML 出 货 量 增 长较为明显，出货量分别为229/258/309/345/449 台 ， 对 应 CAGR 为 18.33% ；Canon 出货量分别为84/122/140/176/187 台，对应 CAGR 为 22.15%，增长主要来自成熟光刻机；Nikon出货量分别为 46/33/35/30/31 台，对应 CAGR 为-9.4%。相应的，三大供应商光刻机营收由 2019 年的 945 亿元增长至 2023 年的 1801 亿元，CAGR 达17.5%。
成熟制程的光刻机出货量增长明显。将这三家公司的出货量按光刻机类型分，结果显示，2019-2023 年，EUV 光刻机出货量分别为 26/31/42/40/53 台，ArFi光刻机出货量分别为 93/79/85/85/136 台，ArF 光刻机出货量分别为35/33/25/32/40台（其中 Nikon 含部分翻新机台）。
（1）从出货量结构来看，KrF 与 i-line 两类成熟制程的光刻机增长较快。2023年的出货量数据显示，KrF 光刻机占据大头，出货量达244 台；i-line 光刻机次之，出货量达 209 台。受限于产能，EUV 光刻机出货量较低，仅53 台。（2）从成长性来看，KrF 光刻机、i-line 光刻机、EUV 光刻机成长性较为突出，2019-2023 年出货量 CAGR 达 24.1%、19.6%、19.5%，ArF 出货量保持平稳。
EUV 光刻机单价增长明显，其余光刻机价格较为稳定。考虑EUV 光刻机在性能、功耗、生产成本、生产周期等方面优势突出，且由于独家供应商ASML 产能吃紧，在先进逻辑芯片、12nm DRAM 领域 EUV 光刻机供不应求。2018-2023 年，EUV光刻机平均售价（ASP）保持高位且持续攀升，由 2018 年的1.0 亿欧元提升至2023年的 1.7 亿欧元，与其余光刻机相比价格上涨较为明显。此外，EUV 销售量占比最小，金额占比最高，是光刻机行业市场规模的主要增长来源。根据ASML年报，2023 年 EUV 销售金额达 91.24 亿欧元，占全球光刻机市场规模的38%。
从光刻机出货量来看，根据 ChipInsights 数据，从供应商角度分析，2023年ASML、Nikon 和 Cannon 分别出货 449/46/187 台光刻机（其中Nikon 含部分翻新机台），ASML 具备明显优势，市占率为 66%。从营收来看，2023 年ASML、Nikon 和Cannon的光刻机营收分别为 229/14.4/13.9 亿美元，其中AMSL 以89%市占率绝对领先。两类市占率之间差异较大，主要是因为 EUV 单价明显高于其它光刻机。
ASML 在高端光刻机市场占据绝对优势，市占率有望继续巩固。从光刻机类型角度分析，ASML 是唯一的 EUV 光刻机供应商，处于垄断地位，同时多种光刻机均有出售，高端光刻机（EUV、ArFi、ArF）的出货量占据绝对优势，市占率分别为100%/92%/80%。据 ASML 财报数据，2023 年 ASML 各光刻机营收中，EUV 光刻机的营收占比近 42.6%，其次是 ArFi 的 42.1%，EUV 和 ArFi 作为高端机型，单价较贵，为 ASML 贡献了主要营收增长动力。作为 EUV 光刻机唯一的供应商，ASML技术领先、在手专利充足，因此在在高端光刻机的优势短期内难以被追平，未来有望随高端光刻机需求增长而持续获得市场份额，行业龙头效应将更加集中。
高强度研发投入铸起 ASML 光刻机技术壁垒。2006 年至2023 年，ASML 总计投入研发费用 245.48 亿欧元，平均研发费用率达到 15.5%。通过持续高强度研发投入，ASML 在高端光刻机领域构建起绝对领先的技术壁垒。根据ASML 官网，2013年ASML收购光刻机光源公司 Cymer 以提速研发 EUV 光源，构建起EUV 光刻机垄断地位。同时，ASML 仍在不断改进浸润式 ArFi 光刻机，从分辨率上，ASML 最新浸润式ArFi光刻机可支持至 5nm 先进逻辑工艺及先进 DRAM 制程；从生产效率上，最新NXT2100i 提供每小时 295 片晶圆生产效率，进一步领先其竞争对手。
Nikon、Canon 占据中低端市场。由于中低端光刻机的技术壁垒较低，竞争者数量较多，因此 Nikon 和 Canon 凭借价格优势占据中低端市场主导地位。其中，Canon在低端光刻机市场占据优势地位，但仅在 i-line 和KrF 两类光刻机上有所出货，且主要集中在 i-line 光刻机。Nikon 覆盖的光刻机产品类型较广，除EUV之外，其他类型的光刻机均有涉及，其中在 ArF 和 i-line 光刻机领域较为突出，但在出货量上远少于 ASML 和 Canon。目前 Nikon 在 ArFi、ArF 和KrF 领域已有不少产品对标 ASML 的产品，但其生产效率与 ASML 相比仍存在差距。
