光刻机经历五次迭代。
根据所使用的光源的方案，光刻机经历了 5 代产品的迭代，每次光源的改进都显 著提升了光刻机所能实现的最小工艺节点。光刻技术的进步使得器件的特征尺寸不断减小，芯片的集成 度和性能不断提高。在摩尔定律的引领下，光学光刻技术经历了接触/接近、等倍投影、缩小步进投影、 步进扫描投影等曝光方式的变革。曝光光源的波长由 436 纳米（g 线），365 纳米(i 线)，发展到 248 纳 米(KrF)，再到 193 纳米(ArF)。技术节点从 1978 年的 1.5 微米、1 微米、0.5 微米、90 纳米、45 纳米， 一直到目前持续推进。
全球光刻机市场呈现出明显的寡头垄断格局。（1）ASML、Nikon 和 Canon 三家公司长期占据全球光刻机市场的主导地位。其中，ASML 凭借其在高端光刻机领域的技术优势，2024 年占据了全球光刻机市场 61.2%的份额，特 别是在 EUV 光刻机领域，ASML 是全球唯一的供应商。尼康和佳能则主要集中在中低端光刻机领域。
（2）历经长期发展，ASML 把握浸没式机遇后来者居上，成为当前光刻机行业的绝对 龙头。尼康和佳能作为老牌光刻机厂商，占据先发优势，但面对当时如何突破 193 纳米波长的瓶颈的难题时， 科学界和光刻机产业界都积极寻求超越它的方案。最终，在 ASML 和台积电的通力合作下，率先将 193 纳米浸润式光刻机生产出来，也正是这一领先尼康三年的新产品，让 ASML 彻底赢得了光刻机绝大部分 的市场份额。此后，在 2013 年 ASML 推出第一台 EUV 量产产品，进一步加强行业垄断地位，截至目 前，ASML 依然是 EUV 光刻机全球唯一供应商，奠定了光刻机高端领域当之无愧的霸主地位。
（3）高端机型主要被 ASML 垄断，Nikon 及 Canon 出货主要集中在中低端品类。ASML 主导全球前道高端光刻机市场。根据 ChipInsights 的 2024 年全球半导体前道光刻机销量数据显 示，ASML 作为行业龙头在 EUV、ArFi 等高端光刻机领域的销量明显高于其他两家。Nikon 和 Canon 在 KrF、i-line 等领域占据相当程度的市场份额，Nikon 除高端的 EUV 光刻机外，其他类型均有出货； 而 Canon 则主攻低端的 i-line 和 KrF 光刻机，在 i-line 类型光刻机方面销售量较高。
（4）ASML 是全球光刻机市场领导者，2024 年总出货量达 418 台在高端 EUV 光刻机方面，。拥有垄断地位，是全球唯一量产 EUV 光刻机的厂商。根据 ASML 年报披露， 2024 年 EUV 光刻机出货量为 44 台，价值量占其总销售额的 38%；ArFi 光刻机销量 129 台，销售额占 比约 44%，是收入占比最高的出货品类；其余光刻机销量为 245 台。
（5）24 年 ASML 光刻机均价有所提升。从光刻机种类来看，ASML 是全球唯一的 EUV 光刻机供应商，具有绝对的垄断优势，2024 年首次交付 新设备 EXE（High NAEUV）2 台，引领行业走向下一时代。根据 ASML2024 年年报披露，从 2024 年 产品单价来看，EUV 机型产品均价为 1.88 亿欧元，Arfi 机型产品均价为 0.74 亿欧元，均出现价格上升。
中国光刻机需求量较大，是 ASML 光刻机最大的客户。当前，中国大陆是最大的半导体设备市场，同时也是 ASML 的最大客户之一，2023 年中国大陆营收占 ASML 全部营收比为 29%，2024 年因晶圆厂扩产景气度及超额备货的因素爆发增长至 41%，2025 年 Q1 受出口限制等因素影响，营收占比下滑至 27%。展望未来，后续国内晶圆厂仍将继续扩产，国内对 于光刻机需求仍然旺盛。
