成立于1997年，专注于平板显示、半导体等各类掩膜版产品
路维光电致力于掩膜版的研发、生产和销售，产品主要用于平板显示、半导体、 触控和电路板等行业。公司的前身路维电子成立于 1997 年，成立之初主要从事菲 林的生产，产品主要用于 PCB 行业。随着掩膜版技术的演进，掩膜版的主流产品 逐渐由菲林迭代至铬版，公司于 2003 年建成第一条铬版掩膜版产线，开始进入 TN/STN-LCD 平板显示领域。随着电容式触控技术的兴起与发展，公司从 2008 年 左右开始进入触控领域，产品逐步涵盖 G+G、G+F、OGS、Metal Mesh 等技术。
随着国内平板显示与半导体产业的快速发展，以及内嵌式触控技术的转变，公司 在 2014 年左右开始大规模进入平板显示及半导体封装、器件领域。基于自主研 发，公司陆续实现了 G4、G5、G6 TFT-LCD 掩膜版、中小尺寸 AMOLED 及 LTPS 掩膜 版、以及 250nm 制程节点半导体掩膜版等产品的研发和量产，满足了当时国内平 板显示主流产品、半导体芯片封装及器件、先进指纹模组封装等产品应用需求。
随着国内 G10.5、G11 高世代显示面板产线的建设与扩张，公司 2018 年开始建设 国内首条 G11 高世代掩膜版产线，于 2019 年成功下线国内首张 G11 TFT 掩膜版。 同时，公司积极研发半色调（Half-tone）、灰阶（Gray-tone）掩膜版等高端掩 膜版制造技术，于 2018-2019 年陆续下线各世代半色调掩膜版；公司持续提升半 导体掩膜版产品的精度与品质，目前已掌握 180nm/150nm 节点掩膜版制造核心技 术。此外，公司还积极探索掩膜版上游材料领域，分别于 2016 年、2018 年自主 开发了中小尺寸和大尺寸掩膜版光阻涂布技术，打破了国外技术垄断。
“以屏带芯”，立足于平板显示、半导体掩膜版两大产品线
公司立足于平板显示掩膜版和半导体掩膜版两大核心产品线，形成“以屏带芯” 的业务发展格局。掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，作用是将设计者 的电路图形通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量生产。 根据基板材料的不同，公司的产品可以分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（干 版、凸版和菲林等）。根据下游应用行业的不同，公司的产品可分为平板显示掩 膜版、半导体掩膜版、触控掩膜版和电路板掩膜版。 依托于持续的研发投入、扎实的技术实力、可靠的产品质量与优质的客户服务， 公司与众多知名客户建立了长期稳定的合作关系，在平板显示领域，公司主要客 户包括京东方、华星光电、中电熊猫、天马微电子、信利等；在半导体领域，公 司主要客户包括士兰微、晶方科技、华天科技、通富微电等。
股权结构集中，拥有深圳南山、深圳宝安、成都三大生产基地
公司控股股东、实际控制人为杜武兵先生，杜武兵先生及其一致行动人合计控制 公司表决权比例为 53.53%。截至 2022 年 5 月，杜武兵先生直接持有公司 31.74% 股份，通过路维兴投资控制公司 10.15%股份，为公司控股股东、实际控制人。此 外，根据《上市公司收购管理办法》相关规定，结合杜武兵、肖青、白伟钢在路 维电子存在合作关系的情形，基于审慎性原则，公司认定肖青、白伟钢与实际控 制人杜武兵为一致行动人，肖青、白伟钢分别直接持有公司 10.66%、0.98%股份。 公司拥有三大生产基地，分别位于成都高新区、深圳南山区和深圳宝安区。2021 年下半年以来，公司逐步将宝安厂区的生产线搬迁至成都厂区。
20、21年高世代掩膜版形成规模效应，公司实现业绩高速增长
2017 年以来公司营业收入快速增长。17-21 年公司营收分别为 1.07、1.45、2.18、 4.02、4.94 亿元，营收 CAGR 为 46.6%，实现快速增长，主要得益于：1)全球平板 显示行业产能加速向国内转移、国内半导体设计和代工产业兴起，国内平板显示 及半导体领域的主流厂商市场份额迅速增加、产业链国产化步伐加快，对掩膜版 等核心材料的市场需求提升，公司抓住机遇，产销规模迅速扩大；2)公司技术实 力不断增强，突破了 G11、G8.6 掩膜版诸多技术与工艺难点，并不断提升产品精 度；3)公司产品线日益丰富和完善。
17-19 年公司归母净利润持续下滑，20、21 年高世代掩膜版形成规模效应后实现 较高盈利水平。17-19 年公司归母净利润分别同比下滑 35.2%、44.2%、218.0%至 1179、658、-776 万元，主要系：1)为响应客户需求公司拓展了 G8.5、G11 高世 代产线，新产线投产初期产生折旧等固定成本较高，单位制造费用显著增加；2) 高世代掩膜版技术长期掌握在国际厂商手中，在公司 G11 掩膜版进入市场后，国 外厂商为维持市场份额主动降价，带动市场价格明显下滑；3)高世代新产线投产 过程中公司管理费用率、研发费用率有较明显提升，同时公司为筹集资金向银行 申请固定资产借款，导致利息支出增加。20、21 年随着公司高世代掩膜版产销量 的大幅增加，规模效应逐步显现，公司归母净利润分别同比增长 518.1%、61.1% 至 3246、5231 万元，实现较高水平的盈利。
按基板材料不同，公司主要产品为石英掩膜版和苏打掩膜版，其他类产品营收占 比较小且逐年下降。近几年公司追踪下游客户对石英掩膜版需求快速提升的市场 变化，适时将研发资源集中于更高精度的产品领域，并相应调整了投资重心和产 能规划，公司石英掩膜版营收从 2018 年的 7153.43 万元增长至 2021 年的 4.28 亿元(CAGR: 81.6%)，营收占比从 2018 年的 49.3%提升至 86.8%。此外，苏打掩膜 版的营收稳中略降，营收占比从 2018 年的 44.0%下降至 2021 年的 11.7%。
2018年以来公司石英掩膜版营收保持快速增长的原因主要为：1)公司通过设备投资、研发成果转化等途径具备了高世代掩膜版的生产能力，应用于平板显示G6以上、半导体器件等领域的中高端掩膜版产能得到有效提升；2)公司产品线逐步完善，产品技术指标不断提升，从而抓住了国内平板显示及半导体行业的快速发展机遇，通过配套京东方、华星光电、中电熊猫等平板显示客户以及士兰微、华天科技等半导体客户，实现订单持续增长和产品结构升级。
2018 年以来公司平板显示掩膜版营收呈快速增长趋势，营收占比持续提高。公司 平板显示掩膜版营收从 2018 年的 4973.48 万元增长至 2021 年的 3.55 亿元(CAGR: 92.6%)，营收占比从 2018 年的 34.3%提升至 2021 年的 72.0%，主要受益于国内平 板显示行业蓬勃发展、新建产线及新产品推出对掩膜版的需求增长，以及公司在 平板显示行业工艺技术水平、产品代际拓展和产能持续提升。其中，G5、G6 掩膜 版是公司平板显示类产品营收的支柱，2021 年占比分别为 20.2%、30.5%；G8.5、 G8.6、G11 掩膜版是公司平板显示类产品收入快速增长的主要动因。此外，随着 G8.5、G11 高世代掩膜版产线的规模效应逐步显现，公司平板显示掩膜版毛利率 水平从 2019 年的 11.64%逐步提升至 2021 年的 17.78%。
半导体掩膜版是公司第二大营收来源，规模持续增长，但营收占比有所下降。公 司半导体掩膜版营收从 2018 年的 4169.12 万元增长至 2021 年的 9624.95 万元 (CAGR: 32.2%)，营收占比从 2018 年的 28.8%下降至 2021 年的 19.5%。追踪半导 体制造和封测行业向更精细制程升级的路径，公司的半导体掩膜版工艺精度逐步 提升，适应了下游需求，营收规模稳步增长。公司半导体掩膜版毛利率维持在较 高水平，从 2018 年的 35.11%持续提升至 2021 年的 51.27%。
17-19 年公司开拓 G8.6、G11 高世代掩膜版市场，毛利率水平有所下滑，20、21 年随着规模效应显现，毛利率水平稳步回升。2017 年以来公司拓展 G8.5、G11 高 世代掩膜版产线，新产线投产初期折旧成本较高，同时国外厂商为维持 G11 掩膜 版市场份额主动降价，带动市场价格明显下滑，结合产品结构的变化（大尺寸掩 膜版收入占比提升），公司毛利率从 2016 年的 44.09%下降至 2019 年的 21.42%。 20、21 年随着高世代产线规模效应显现，公司毛利率稳步回升至 23.15%、26.26%。
受高世代新产线投资的影响，公司 18、19 年期间费用率显著提升至 39.13%、 41.24%，20、21 年恢复至 20.26%、19.31%的正常水平，其中：管理费用率：公司管理费用率从 17 年的 9.67%提升至 18、19 年的 18.61%、 13.78%，主要系公司为保证成都路维高世代线的顺利建设及快速投产，2018 年 4 月与兴睿宝签署《咨询合同》，约定兴睿宝向成都路维提供 G11 设备及 辅助设备的搬迁入厂技术指导、协助制定 G11 设备及辅助设备的使用、维护 和管理制度，为 G11 设备及辅助设备的安装调试及后续的使用、维护和管理 提供咨询建议，进而支付较多中介服务费所致。20、21 年随着成都路维高世 代线的顺利投产，公司管理费用率下降至 6.36%、7.60%的正常水平。
研发费用率：公司研发费用率从 2018 年的 5.66%提升至 2019 年的 9.07%，主 要原因是：1)公司为保持技术先进性，开展的研发项目增多，研发消耗的物 料相应增加；2)成都路维主要围绕 G11 等高世代平板显示掩膜版领域进行研 发，高世代掩膜版原材料的价格较高。20、21 年随着高世代掩膜版研发项目 的逐步完成，公司研发费用率水平下降至 7.06%、4.66%。
销售费用率：随着 G6、G8.6、G11 等中高世代掩膜版的营收增加，公司营收 更具规模效应，销售费用率从 16 年的 11.16%持续下降至 19 年的 6.04%。此 外，2020 年起一系列政策的变化进一步助力公司销售费用率下降至 20、21 年的 2.45%、3.09%，包括：1)运输费从销售费用重分类至营业成本；2)销售 管理人员的薪酬结构由底薪加提成的模式转为每月固定薪资加绩效提成的模 式；3)新冠疫情导致公司差旅费有所减少；4)对于部分境外客户的开拓不再 采用代理商开拓的模式，因此不再产生业务拓展费。
财务费用率：18、19 年公司财务费用率水平较高，为 6.84%、12.36%，主要 系成都路维为 G8.5 及 G11 掩膜版建设项目向银行申请固定资产借款，导致利 息支出增加所致。20、21 年财务费用率下降至 4.40%、3.96%，主要系公司业 务规模扩大，自有资金量增加，公司和银行协商提高银行存款利率。
随着 G8.6、G11 高世代产线的规模效应显现，公司经营现金流情况向好。18-21 年公司保持较高的投资力度，包括投建成都路维生产基地及高世代线、扩产 6 代 线、预付 IPO 募投项目设备款项等，18-21 年公司投资活动产生的现金流量净额 分别为-3.96、-1.76、-1.71、-1.35 亿元。在 G8.6、G11 高世代掩膜版产线的规 模效应的带动下，公司经营活动产生的现金流量净额从 2018 年的 613.15 万元提 升至 2021 年的 1.34 亿元，经营现金流情况向好。
18、19 年公司持续融资，资产负债率有所提升，20、21 年资产负债率随着规模 增长逐步下降。18、19 年公司基于产线升级和扩产需求而持续融资，筹资活动产 生的现金流量净额分别为 3.76、2.50 亿元，公司资产负债率水平也从 2017 年的 31.48%提升至 18、19 年的 72.77%、71.32%。随着 G8.6、G11 高世代产线的投产 以及公司营收、资产体量的扩张，20、21 年资产负债率下降至 65.70%、60.11%。
掩膜版位于产业链中游，是平板显示、半导体等生产的重要原料
掩膜版是微电子制造过程中的图形转移母版，是平板显示、半导体、触控、电路 板等行业生产制造过程中重要的关键材料。掩膜版的作用是将设计者的电路图形 通过曝光的方式转移到下游行业的基板或晶圆上，从而实现批量化生产。作为光 刻复制图形的基准和蓝本，掩膜版是连接工业设计和工艺制造的关键，掩膜版的 精度和质量水平会直接影响最终下游制品的优品率。以 TFT-LCD 制造为例，利用 掩膜版的曝光掩蔽作用，将设计好的 TFT 阵列和彩色滤光片图形按照薄膜晶体管 的膜层结构顺序，依次曝光转移至玻璃基板，最终形成多个膜层所叠加的显示器 件。以晶圆制造为例，其制造过程需要经过多次曝光工艺，利用掩膜版的曝光掩 蔽作用，在半导体晶圆表面形成栅极、源漏极、掺杂窗口、电极接触孔等。
掩膜版位于产业链中游。掩膜版的主要原材料包括掩膜基板、光学膜、化学试剂以及包装盒等辅助材料，掩膜版主要应用于平板显示、半导体、触控和电路板的制造过程。平板显示、半导体等中游电子元器件厂商的终端应用主要包括消费电子（电视、手机、笔记本电脑、平板电脑、可穿戴设备）、家用电器、车载电子、网络通信、LED照明、物联网、医疗电子以及工控等领域。掩膜版生产的工艺流程包括CAM图档处理、光阻涂布、激光光刻、显影、蚀刻、脱膜、清洗、宏观检查、自动光学检查、精度测量、缺陷处理、贴光学膜等环节。
掩膜版主要应用于平板显示及半导体，合计市场规模超50亿美元
在掩膜版下游应用中，平板显示和半导体是掩膜版最主要的两个应用领域。2021年平板显示掩膜版市场实现复苏，预计2022年将延续增长态势。在平板显示掩膜版领域，根据Omdia 数据，在全球LCD产能快速扩张的背景下，全球平板显示掩膜版市场规模从2016年的671亿日元增长至2019年的1010亿日元(CAGR:14.58%)。受新冠疫情影响，2020年全球平板显示掩膜版市场规模同比下降10.57%至903亿日元，但全球平板显示掩膜版市场自2021年起逐渐复苏，预计2022年市场规模将增长至1026亿日元。中国平板显示掩膜版市场规模占比持续提升。分地区来看，根据Omdia数据，中国平板显示掩膜版市场规模占比持续提升，从2017年的47%提升到2020年的66%，预计2022年占比将达到71%。
全球半导体掩膜版市场保持高速发展的态势。根据 SEMI 数据，自 2012 年起，在经过连续七年的增长后，2019 年全球半导体掩膜版市场规模达到 41 亿美元；SEMI 预计未来全球半导体掩膜版市场将保持稳健增长的态势，2021 年市场规模将超过 44 亿美元。分地区来看，随着国内半导体产业占全球比重的逐步提升，国内半导 体掩膜版市场规模也逐步扩大；根据 SEMI 数据，2019 年国内半导体掩膜版市场 规模 1.44 亿美元，预计 2021 年将达到 1.95 亿美元(CAGR: 16.32%)。
市场增长驱动：下游平板显示、半导体行业保持持续增长
从产业链来看，掩膜版行业的发展与下游平板显示、半导体等行业的发展密切相关，下游行业市场规模持续增长也为掩膜版行业提供了更广阔的市场空间。 1)显示面板趋向大尺寸，产能加快向中国转移，掩膜版需求持续增加。显示面板大尺寸化趋势持续。随着人们消费的不断升级，液晶电视的平均尺寸每 年维持一定幅度的提升，根据 Omdia 数据，2018 年全球平板电视面板的平均尺寸 为 44.3 英寸，Omdia 预计 2026 年将提升至 52.2 英寸。
受终端需求大尺寸化的趋势影响，面板世代数不断演进，从1988年的第1代（G1）面板发展到2018年的第11代（G11）面板，掩膜版的世代也相应演进。根据Omdia数据，2016年全球G10及以上世代掩膜版的销售额为51.75亿日元，占比8%；2019年G10及以上世代掩膜版的销售收入为157.51亿日元（2016-2019年CAGR:44.92%），占比16%。新冠疫情以来面板行情较好，已有规格型号持续量产导致G10及以上世代新品开案数下降，同时掩膜版厂商的价格竞争持续，导致2020、2021年全球G10及以上世代掩膜版的销售额有所下降。Omdia预计2022年全球G10及以上世代掩膜版的销售额将恢复同比增长。
显示面板产能加快向中国转移。2003-2008年，国内显示面板产业处于技术引进、积累的起步阶段；2009-2017 年，国内显示面板产业向高世代扩张，实现快速追 赶；2018-2020 年，国内显示面板产业实现全面反超、全球领先。根据 Omdia 数 据，国内显示面板产能占比（按面积）从 2003 年的 2.00%提升至 2021 年的 61.23%， 并于 2017 年超过韩国成为全球第一；Omdia 预测 2027 年国内 LCD 产能占比（按 面积）将达到 73.74%，领先地位将进一步巩固。
伴随着国内显示面板产业做大做强，京东方、TCL 华星等国内企业迅速崛起。根 据 Omdia 数据，2021 年京东方、TCL 华星的显示面板产能面积分别为 9236、4798 万平米，领先于三星、LG、友达、群创的 1736、5146、3540、3917 万平米。目前 京东方、TCL 华星等国内企业的显示面板产能规模已处于全球领先位置。
2)掩膜版是芯片的关键材料，半导体行业快速发展拉动掩膜版市场需求。掩膜版是半导体芯片制造的关键材料。根据数据，2019年半导体晶圆制造材料的市场规模为322亿美元，其中成本占比最高的是硅片，占比约37%；其次是掩膜版和特种气体，分别占比约13%。
半导体市场增长空间广阔，对半导体掩膜版的需求可观。根据 SEMI 数据，全球 半导体销售额从 1999 年的 1494.00 亿美元增长至 2021 年的 5558.93 亿美元，年 复合增速达到 6.15%；SEMI 预计 2022 年全球半导体销售额将同比增长 10.37%至 6135.23 亿美元。全球半导体市场虽呈现一定的周期性，但在智能汽车、人工智 能、物联网、5G 通信等市场兴起的带动下，全球半导体产业的增长空间广阔。 半导体掩膜版的技术更新主要体现在图形尺寸、精度及制造技术等方面。半导体 技术节点由 130nm、100nm、90nm、65nm 等逐步发展到 28nm、14nm、7nm、5nm 等； 半导体掩膜版也从激光直写光刻、湿法制程、光学检测等逐步发展为电子束光刻、 干法制程、电子显微检测。同时，相移掩膜技术（PSM）、邻近光学效应修正（OPC） 技术等也越来越多的应用于先进制程半导体掩膜版制造领域。
技术发展趋势：掩膜版趋向大尺寸、高精度，半色调掩膜版兴起
掩膜版作为平板显示、半导体制造等下游行业的关键材料，其技术、规格的发展与下游终端产品的技术需求具有较强的联动性。未来掩膜版有望朝着大尺寸、高精度的方向发展，且半色调掩膜版有望逐渐兴起并快速发展。
1)掩膜版趋向大尺寸
近几年面板厂商积极投资与扩产高世代产线，面板尺寸的增大带动掩膜版朝大尺 寸化方向发展，同时带动大尺寸掩膜版的需求增长。面板的世代数按照产线所应 用的玻璃基板的尺寸划分，面板代数越高，玻璃基板尺寸越大，切割的屏幕数目 越多，利用率和效益就越高。55 英寸及以上显示产品的需求增加引领全球平板显 示产业向 8+代线和 10+代线迈进，8.5 代线可高效切割 32 寸、48 寸、55 寸电视， 8.6 代线可高效切割 50 寸、58 寸电视，10.5 代线可高效切割 65 寸、75 寸电视。
除此之外，还可以采用套切等技术，生产出尺寸差异化的产品，后续可根据市场 需求灵活调整。举例来说，8.5 代线切割 65 寸电视的效率为 64%，但是可以采用 66 寸+32 寸电视套切，实现 94%的切割效率；8.6 代线切割 90 寸电视的效率为 74%， 但是可以采用 90 寸+23.3 寸电视套切，实现 91%的切割效率；10.5 代线切割 65 寸、75 寸电视都可以达到 90%以上的切割效率。
2)掩膜版趋向高精度
超高清视频产业发展前景广阔，带动掩膜版朝着高精细化的方向发展。《超高清视频产业发展行动计划（2019-2022年）》指出：“到2022年，我国超高清视频产业总体规模超过4万亿元、4K产业生态体系基本完善，8K关键技术产品和产业化取得突破。8K电视终端销量占电视总销量的比例超过5%，同时超高清视频用户数达到2亿”。掩膜版作为平板显示制造过程的关键材料，对面板产品的精度起决定性的作用，这意味着高清化对掩膜版的精度提出更高要求。随着平板显示解析度不断提高，TFT半导体主动层材料已逐步采用LTPS/Oxide技术，并朝着LTPO（低温多晶氧化物）等新技术演变。对于掩膜版的配套技术要求，主要体现在曝光分辨率（最小线宽线缝）、最小孔或方块、CD均匀性以及套合精度的不断提升。
而在半导体领域，掩膜版技术更新主要体现在图形尺寸、精度及制造技术等方面。 以掩膜版最小图形尺寸为例，180nm 制程节点半导体产品所对应的掩膜版最小图 形尺寸约为 750nm，65nm 制程节点产品对应约 260nm，28nm 制程节点产品对应约 120nm。可以看出，半导体掩膜版图形尺寸及精度随着半导体技术节点的演化而逐 步提升，目前主流制程在 100-400nm 工艺区间。 掩膜版精度的提升，主要表现为对基板材料和生产工艺的进一步升级。在基板材 料上，石英基板与苏打基板相比，具有高透过率、高平坦度、低膨胀系数等优点， 通常应用于对产品图形精度要求较高的行业，因此基板材料逐渐由苏打基板转为 石英基板。生产工艺方面，随着集成电路技术节点推动，对于掩膜版 CD 精度、TP 精度、套合精度控制、缺陷管控等环节提出了更高的要求。
3)半色调掩膜版（HTM）兴起并快速发展
半色调掩膜版可降低下游面板厂商的生产成本。TFT 掩膜版主要用于 TFT 黄光制 程，包含 TFT-Array 工序和 CF 工序，分别利用掩膜版的曝光隐蔽作用完成 TFT-Array 和 CF 的图形制作。按照掩膜版膜层透光效果划分，可将 TFT 掩膜版分 为二元型掩膜版（Binary-Mask）和多色调或多灰阶掩膜版（Multi-ToneMask，MTM）。 MTM 包含灰阶掩膜版（Gray-ToneMask，GTM）和半色调掩膜版（Half-ToneMask， HTM）两种产品。与二元掩膜版相比，多灰阶掩膜版中两种产品的作用都是实现曝 光过程中的部分透光功能，但由于半色调掩膜版具有图形设计方便、透过率可控 等优点，目前已成为各大面板厂商主要选择的产品。
传统的二元掩膜版通过一次曝光会在玻璃基板上形成两种不同的透光区域：透光 区域和不透光区域，而半色调掩膜版通过一次曝光可以在玻璃基板上形成三种不 同的透光区域：透光区域、部分透光区域和不透光区域。以 TFT-Array 制造为例， 利用该特性，下游客户在使用半色调掩膜版曝光、显影后，其光刻胶可以形成两 种不同的厚度，搭配后段干法蚀刻等工艺，可以将 TFT-Array 制程中的关键层（如 源漏极、有源层）的曝光工序进行合并和简化，将原本的 5 道曝光工艺简化成 4 道，降低了 TFT-LCD 制造成本，提高了生产效率。
随着新型显示技术不断呈现大尺寸、无边框、高精细、柔性化的发展态势，半色 调掩膜版因其优异的产品特点，在各大面板厂商中的生产工艺中兴起并快速发展， 国内华星光电、京东方、中电熊猫等面板巨头已经在G5/G6/G8.5/G11 等生产线 上导入半色调掩膜版及相关工艺技术。
行业竞争格局：美国、日韩掩膜版厂商处于领先地位
掩膜版行业的主要厂商有美国的福尼克斯及其韩国子公司 PKL，韩国的 LG-IT，日 本的 SKE、HOYA、Toppan、DNP，中国的台湾光罩、清溢光电、路维光电。其中， LG-IT 和 SKE 的掩膜版产品主要布局在平板显示掩膜版领域，均拥有 G11 掩膜版 生产线；Toppan 和中国台湾光罩掩膜版产品主要布局在半导体掩膜版领域；福尼克斯、 DNP、HOYA 的掩膜版产品同时布局在平板显示掩膜版领域和半导体掩膜版领域， 均拥有 G11 掩膜版生产线；清溢光电和路维光电的掩膜版产品种类多样，应用领 域广泛，包括平板显示掩膜版、半导体掩膜版、触控掩膜版和电路板掩膜版等， 其中路维光电拥有 G11 掩膜版生产线。
在平板显示掩膜版市场，美国、日本、韩国的掩膜版厂商处于垄断地位。根据 Omdia 数据，2020 年全球各大掩膜版厂商平板显示掩膜版的销售金额前五名分别 为福尼克斯、SKE、HOYA、LG-IT 和清溢光电，前五名掩膜版厂商的合计销售额占 全球平板显示用掩膜版销售额的比例约为 88%。根据 Omdia，2020 年路维光电平 板显示掩膜版市场份额位列全球第八，国内第二。
G11 掩膜版由于技术难度更高，进入壁垒较高，长期被国际先进掩膜版厂商垄断。 通过多年技术积累，路维光电于 2019 年成功建设 G11 掩膜版产线，成为国内第一 家拥有 G11 高世代线的掩膜版企业。目前，全球共 5 家企业拥有 G11 高世代线， 分别是 DNP、福尼克斯、SKE、LG-IT 及路维光电；根据 Omdia 数据，2020 年路维 光电在 G11 高世代线掩膜版的市场份额为 13.97%。
在半导体领域，半导体掩膜版的主要参与者为晶圆厂自行配套的掩膜版工厂和独 立第三方掩膜版生产商。由于用于芯片制造的掩膜版涉及各家晶圆制造厂的技术 机密，因此晶圆制造厂先进制程（45nm 以下）所用的掩膜版大部分由晶圆厂自己 的专业工厂生产，但对于 45nm 以上等比较成熟的制程所用的标准化程度更高的掩 膜版，晶圆厂出于成本的考虑，更倾向于向独立第三方掩膜版厂商进行采购。根 据 SEMI 数据，2019 年在半导体芯片掩膜版市场，晶圆厂自行配套的掩膜版工厂 占据 65%的份额；在独立第三方掩膜版市场，半导体芯片掩膜版技术主要由美国 福尼克斯、日本 DNP 和 Toppan 掌握，市场集中度较高。
路维光电作为国内掩膜版行业的领先企业，制造能力逐步从封测环节延伸至半导体器件及芯片制造，产品集中在300nm/250nm制程节点，CD精度能够控制在50nm水平，逐步向180nm、150nm、90nm、65nm节点方向发展，与国内某些领先芯片公司及其配套供应商、士兰微、晶方科技、华天科技、通富微电、三安光电、光迅科技等国内主流厂商开展紧密合作。
对标全球领先企业，公司建设国内首条G11掩膜版产线
公司是国内首家、全球第四家掌握 G11 掩膜版生产制造技术的企业。G11 掩膜版 由于基板面积更大，图形精度及均匀性、位置精度、缺陷控制、Mura 控制等环节 技术难度较高，日韩等国外企业在 G11 掩膜版领域长期处于垄断地位。在公司 G11 掩膜版产线建成之前，只有日本 SKE、韩国 LG-IT 和日本 DNP 拥有 G11 掩膜版的 生产能力。公司于 2019 年成功建设国内首条 G11 高世代掩膜版产线并实现投产， 一举打破国外厂商在该领域的垄断，成为国内首家、全球第四家掌握 G11 掩膜版 生产制造技术的企业，一定程度上缩小了与国际领先企业的差距。
突破高世代半色调掩膜版（HTM）制造技术，打破国外技术垄断
传统掩膜版在使用时对于特定波长的光只呈现透光与不透光两种效果；而半色调 掩膜版（HTM）则是在玻璃基板上经过多次溅射沉积形成半透膜和遮光膜两个膜层， 然后通过两次光刻制程形成包含全透光、完全不透光和部分透光效果的图形结构， 其图形精度的各项指标均高于传统掩膜版。半色调掩膜版的运用可以使下游面板 商减少曝光制程，提高生产效率及良率，降低生产成本，已在各大面板厂商中的 生产工艺中兴起并快速发展。
公司半色调掩膜版已在京东方、中电熊猫等客户实现销售。在公司具备高世代高 精度半色调掩膜版（HTM）生产能力之前，该技术主要被日韩等掩膜版厂商垄断。 公司于 2018 年成功实现 G2.5 等中小尺寸半色调掩膜版投产，并于 2019 年先后研 发并投产 G8.5、G11 TFT-LCD 半色调掩膜版。目前公司具有 G2.5-G11 的半色调掩 膜版生产能力，可以配套下游面板厂商的所有世代的面板产线，而且在半透层膜 透过率均匀性控制、化学气相沉积技术等方面达到国内领先水平，公司的半色调 掩膜版产品已成功通过京东方、中电熊猫等下游客户的认证并实现销售。公司的 半色调掩膜版产品荣获中国电子材料行业协会和中国光学光电子行业协会液晶分 会联合授予的“2020 年中国新型显示行业产业链发展贡献奖之创新突破奖”。
以光阻涂布技术为突破点，向上游原材料技术延伸
光阻涂布技术是掩膜版上游材料的核心工艺技术之一，对掩膜版产品品质具有决 定性的影响。掩膜版的主要原材料为掩膜基板（涂有光阻和镀铬的玻璃基板）， 掩膜基板的质量对掩膜版产品最终品质有重大影响。因此，为降低原材料采购成 本和控制终端产品质量，国际领先的掩膜版企业陆续向上游原材料行业延伸，部 分企业已经具备研磨、抛光、镀铬、光阻涂布等掩膜版全产业链技术能力。 公司在光阻粘度调整优化、光阻膜厚及均匀性优化等方面取得了大量的成果，并 成功将其应用到 G11、G8.5、G8.6 高世代掩膜版产品中，实现了国内掩膜版行业 在高精度、大尺寸光阻涂布技术上零的突破及对产业链上游技术的成功延伸，一 定程度上缩小了与国外领先企业的差距。
坚持“以屏带芯”的发展战略，提升半导体掩膜版技术能力
公司在平板显示掩膜版领域的技术水平处于国内领先地位。在尺寸方面，公司掩 膜版覆盖 G2.5-G11 全世代产线，其中公司在超大尺寸平板显示用掩膜版的生产能 力方面打破了国外厂商的长期垄断。此外，在精度方面，公司平板显示掩膜版已 达到国际主流水平。 公司针对 AMOLED、Micro LED 等前沿显示技术不断进行研发，完善产品线以匹配 新型显示行业高速发展的需求，为下游面板厂商的绝大部分产品提供相应的掩膜 版产品，技术水平处于国内领先地位，但与国外先进技术相比仍存在一定差距，主要体现在光刻、显影、蚀刻等工艺的细节上。
半导体掩膜版技术壁垒高，工艺难度大，长期被美国福尼克斯等国外的龙头企业 所垄断。在半导体掩膜版领域，公司处于国内主流水平，与国际先进厂商存在一 定差距，主要体现在：1)在晶圆制造用掩膜版领域，国内独立第三方掩膜版厂商 的技术能力集中在 100nm 节点以上，与国际领先企业有着较为明显的差距；2)在 IC 封装和 IC 器件掩膜版领域，在精度方面与国际厂商存在一定差距。
公司坚持“以屏带芯”的发展战略，在平板显示掩膜版领域实现技术突破的同 时，不断攻克半导体掩膜版的核心技术，致力于为国内半导体产业提供关键上游 原材料的国产化配套。目前公司已实现 250nm 制程节点半导体掩膜版量产，满足 先进半导体芯片封装、半导体器件、先进指纹模组封装、高精度蓝宝石衬底（PSS） 等产品应用。公司通过自主研发，已掌握 180nm/150nm 节点半导体掩膜版制造核 心技术并积累了一定的研究成果，同时公司已掌握的半导体掩膜版制造技术可以 覆盖第三代半导体相关产品。
募投项目分析：拟IPO募资4.05亿元用于掩膜版扩产及研发
公司拟 IPO 发行人民币普通股不超过 3333.36 万股（不含行使超额配售选择权发 行的股票数量），占发行后总股本不低于 25%。本次募投项目投资总额 40505.26 万元，拟使用募集资金投入金额 40505.26 万元，按轻重缓急投资于以下项目：1) 高精度半导体掩膜版与大尺寸平板显示掩膜版扩产项目；2)路维光电研发中心建 设项目；3)补充流动资金。
高精度半导体掩膜版与大尺寸平板显示掩膜版扩产项目
高精度半导体掩膜版与大尺寸平板显示掩膜版扩产项目投资额为 26558.31 万元， 主要建设内容为新建 3 条半导体高精度掩膜版生产线和 1 条平板显示大尺寸掩膜 版（G8.5）生产线，其中新建的 G8.5 平板显示大尺寸掩膜版产线将与成都路维原 有产线共用部分后端制程设备。该项目建设完成后将大幅提升公司在中高端掩膜 版领域的生产能力，大幅缓解公司现有产能不足的问题，推动公司营收快速增长 并提升市场份额，同时在生产上强化规模效应降低生产成本并提高生产效率。
公司主要产品为石英掩膜版和苏打掩膜版，两种产品区别在于基板材料的不同， 但主要生产工序完全相同且产能瓶颈均为光刻环节。光刻采用激光直写像素化图 形的方式进行，系整个掩膜版制造过程中最为耗时的工序。由于掩膜版属于高度 定制化的产品，不同产品的光刻时间受到尺寸、精度和图形的复杂程度等多种因 素影响，以产品数量定义的产能并不能直观的反映公司的产能情况，因此以光刻 机实际运行时间与理论运行时间来反映公司产能利用率。
公司 2021 年产能利用率较 2020 年变化不大，设备利用率较 2020 年有所下降，主 要系：1)宝安分公司部分设备逐步搬迁至成都，公司规划的研发项目数量有所减 少，研发工时相应减少，从而导致光刻机实际工时减少，影响了设备利用率；2) 成都路维于2019年立项的一批高世代掩膜版研发项目大部分已于2020年底完成， 2021 年成都路维研发项目大部分为新增项目，尚处于前期理论研究和小规模测试 阶段，因此使用光刻机时长较 2020 年有所减少，影响了设备利用率。
截至 2021 年末，公司对高世代掩膜版生产线相关机器设备的产能利用已较充分。 2019 年高世代掩膜版生产线投产初期，由于其产品市场尚处于开拓阶段，订单尚 不饱和，高世代线产能尚未充分释放，设备的使用频率较低，2019 年 11 代线产 能利用率和设备利用率分别为 56.38%和 61.26%，8.5 代线产能利用率和设备利用 率分别为 38.08%和 45.20%。2020 年以来，随着公司不断拓展高世代掩膜版市场， 高世代线的产能利用率和设备利用率逐年攀升，2020 年 11 代线和 8.5 代线的产 能利用率分别上升至 61.07%和 72.41%，设备利用率分别提升至 89.30%和 92.11%。 2021 年，11 代线和 8.5 代线的产能利用率继续上升至 77.17%和 80.75%，设备利 用率分别为 97.45%和 90.95%。
G8.5 平板显示掩膜版市场需求较大，公司此前受限于产能不足的问题，在需求撞 期时需要使用 G11 掩膜版产线完成 G8.5 掩膜版的生产；而 G11 产线的设备最经济 的配置为用于 G11 和 AMOLED 平板显示掩膜版的生产制造，因此产品和产线的错配 使公司的生产成本上升而利润空间下降。本次扩产项目新建 G8.5 掩膜版产线将释 放现有 G11 产线的产能，使其更多投入到 G11 和 AMOLED 平板显示掩膜版的生产中， G11 和 AMOLED 掩膜版等高端产品技术难度大，产品附加值高，有利于公司优化产 品结构，保持公司在平板显示掩膜版领域的行业领先地位。
路维光电研发中心建设项目
路维光电研发中心建设项目投资额为3446.95 万元，公司拟新建研发中心，用于 公司现有实验条件升级以及新课题的研发。本项目实施完成后将显著优化公司的 研发环境，为高精度半导体掩膜版与大尺寸平板显示掩膜版扩产项目提供有力支 持；同时公司将在半导体掩膜版制造技术研究与开发、新型显示用掩膜版制造新 技术研究与开发、掩膜版制造技术基础与前沿研究、高精度掩膜版制造过程仿真 模拟研究等多项行业前沿技术进行前瞻性研究与开发，进一步提高公司的研发能 力和自主创新能力，为公司未来的持续发展提供内生动力。
在半导体领域，路维光电研发中心建设项目研发课题的主要方向之一是可应用于 130nm/110nm/90nm/65nm 等节点半导体掩膜版及相移掩膜版的生产制造，可满足 微处理器、电源管理芯片、模拟芯片、功率分立器件、DRAM、Nor-Flash 等产品 的需求，研发成果的实现有利于提升我国掩膜版制造技术水平，填补国内先进制 程半导体掩膜版领域的市场空白。在大尺寸平板显示掩膜版领域，研发中心的建 成有利于保持公司在平板显示领域掩膜版技术的领先性，满足新型平板显示发展 要求，优化产品结构，提高公司的市场占有率，有利于公司的长远发展。
（本文仅供参考，不代表我们的任何投资建议。如需使用相关信息，请参阅报告原文。）
