2025年源杰科技研究报告:源启光芯国产化浪潮,杰构数智升级新篇章

1 高端光芯片制造产业龙头,两大战略助力成长

1.1 全产业链布局能力杰出,产品创新不断精进

一体化生产能力突出,下游客户多元化布局。 源杰科技成立 于 2013 年 1 月,距今已有十余年的发展历程。目前公司完成了从 晶体生长、晶圆工艺以及芯片测试与封装全产业链的开发,并形 成规模化生产能力,产品涵盖从 2.5G 到 50G 的 磷化铟激光器芯 片,并拥有完整独立的自主知识产权,其广泛应用于光纤到户、 数据中心与云计算、5G 移动通信网络、通信骨干网络和工业物联 网等核心应用场景。 双向成长战略驱动显著,研发&量产奠定公司基础。从历史宏 观角度来看,十年来源杰在产品升级&规模化生产两个维度上努力, 实现公司业绩的持续扩容。产品迭代方面,2013 年 12 月源杰推出 了第一款 2.5G DFB 产品,三年后 10G DFB 激光器应运而生,此 后公司加速研发进程,于 2020 年陆续推出硅光大功率 CW 激光器、 25G DFB 激光器等新型光芯片;规模化量产方面,源杰分别在 15 年、18 年完成 100 万颗、1000 万颗 DFB 激光器的出货任务,为 公司的业绩成长奠定有力支撑。

1.2 收入盈利短期承压,长期成长稳定向好

收入水平短期承压,长期成长趋势不变。2018-2022 年期间 源杰科技营收规模不断扩大,从 0.70 亿元快速提升至 2.83 亿元, 4 年间复合增长率高达 41.58%。值得注意的是,高复合增长主要来源于 20 年的收入翻倍,受到 5G 政策的推动,20 年公司 25G 激 光器芯片产品需求显著提升,然而伴随后续 5G 基站建设频段方案 的调整,成熟的 10G 产品取代 25G 产品成为出货主力,21 年公司 收入仅与 20 年持平。23 年公司业绩短期承压,电信市场客户库存 堆积、终端运营商建设节奏放缓、传统云计算领域需求下降等因 素构成了主要诱因。 利润增长锚定营收,长期增长稳健。公司归母净利润增长基 本与营收增长趋势一致。23 年由于国内部分产品价格竞争激烈以 及销售产品结构发生变化等因素影响,利润端承压明显。我们认 为,伴随着未来 AI 对 400G、800G 高速光模块的需求爆发,公司 利润水平有望摆脱低迷现状,迎来新发展期。

收入结构方面,2021 年以前公司营收集中于电信市场,主力 产品为 2.5G 和 10G 光芯片,21 年营收占比分别为 43%、42%。 然而近年来公司的应用场景逐步从 5G 基站建设向着数据中心建设 切换。2023 年,公司数通侧产品营收占比达到 3.26%,虽较电信 侧 92.14%的占比仍有较大差距,但其成长节奏以及成长速度有望 迅速扩大,中高端速率产品在其推进进程中将发挥巨大作用。

毛利率持续保持高水平,费用管控良好。根据 iFinD 数据,公 司 2021年2.5G、10G、25G光模块产品毛利率分别为 50%、74%、 85%左右。芯片行业产品历来具有逐年降价的趋势,但随着公司 出货量的规模效应增加,成本的边际递减依然明确,各类产品的 毛利率水平仍有望于未来逐步趋于稳定。展望未来,公司的毛利 率提升将表现在两个领域:1)产品速率升级不断持续,电信侧盈 利能力有望逐步增强;2)我们认为未来公司高速率产品将在数通 侧投放体现,或带动整体盈利能力稳健性的提升。

费用率波动仍处于合理区间,净利润有望继续扩大。公司销 售费用率整体稳定,管理及研发费用率略有波动。例如在 2020 年, 管理费用率于当年出现小规模上升,19 年研发费用率也出现前瞻 性放大。虽然三费费用率于 23 年显著提升,但长期来讲我们认为 费用率仍然有望趋于稳定,或将带来 24 年及以后净利润的稳步提 升。

1.3 股权架构稳定,并购突破发展束缚

董事长为实际控制人,高管研发履历丰厚。董事长、总经理 ZHANG XINGANG 为公司的创始人、实际控制人和第一大股东, 截止 2024Q3股份占比 12.36%,曾担任 Luminent 研发员、研发经 理,SourcePhotonics 研发总监等职,技术与管理经验并重。副总 经理潘彦廷曾担任国立台湾科技大学博士后研究员,并曾于索尔 思担任研发工程师一职。 产业资本入股助力企业长期发展。中际旭创通过宁波创泽云 (持股 4.43%)与先导光电(2.77%)持有公司股份,前十大无限 售条件股东哈勃投资的全资母公司为华为投资。中际旭创与华为 海思同为公司下游重要客户,其资本投资为公司的长期发展潜力 作出重要背书。

2 光芯片国产化进程提速,政策助推行业成长

光芯片系实现光电信号转换的基础元件,其性能直接决定了 光通信系统的传输效率。光芯片工作过程可分为电信号输入、光 信号调制、光信号传输、光信号探测、光信号处理以及电信号输 出六大部分,分别对应物理载体为:信息源、光发射机、光纤光 缆、光接收机、放大器、信息源。

不同类型光芯片具备相异的功能及特性。激光器芯片可按出 光结构分为 FP、DFB、EML 和 VCSEL 四种。具体来看,FP 芯片 作为一种边发射激光器芯片,其主要用于中短距场景。DFB 芯片 则在原始 FP 激光器上加工出光栅,从而实现更精准的波长选择, 拥有较高的波长精度;同时由于 DFB 芯片的发光角小,可实现更 高效的光路耦合,因此用于中长距离传输。相比前两者,EML 芯 片由一颗发射芯片加外吸收调制器构成,成本最高,在工作时其 激光器芯片始终处于发光状态,以控制吸收芯片开关的方式控制 EML 激光器的信号输出。面发射芯片 VCSEL 发光角度较大,一般 配合较粗的多模光纤使用,成本较为低廉。

芯片生产极其复杂,制造环节涉及大量工艺。芯片制造则需 要在晶圆片上不断累加图案,进行数百个工艺流程,从设计到量 产需要花费近 4 个月的时间。制造环节具备 9 大关键工艺,分别为沉积、光刻胶涂覆、曝光、计算光刻、烘烤与显影、刻蚀、计量 和检验、离子注入、封装芯片。

产业链角度出发,光芯片上游企业较为分散,进口依赖严重, 或在产品议价、成本消耗方面存在承压现象。光芯片的上游采购 主要涉及原材料与设备两部分。原材料方面,目前国内材料供应 以化合物半导体材料(第二代半导体材料)为主,例如磷化铟、 砷化镓,砷化镓具有高频、抗辐射、耐高温等特性,其主要代表 企业仍以国外厂商为主,诸如 Sumitomo、Freiberger 等。设备方 面,光刻机、刻蚀机等设备生产商集中于海外,诸如:ASML、佳 能、Lam、TEL 等。 下游直接面向电信、数据中心、消费电子等几大领域,广大 的消费市场助力芯片市场繁荣。根据中投产业研究院数据,2022 年我国光芯片市场规模约为 17.19 亿美元,2015-2022 年的 CAGR 达到 14.93%。同时根据测算,2023 年我国光芯片市场规模约 19.74 亿美元,预计 2026 年有望扩大至 29.97 亿美元。

国产替代逻辑为国产厂商成长的主要催化因子。目前国内光 芯片企业仅在 2.5G 和 10G 领域中实现核心技术掌握,但对于高端 光芯片的国产替代率仍较低:2.5G 及以下速率光芯片国产化率约 90%,但 25G 以上光芯片的国产化率仅 5%,仍以海外光芯片厂商 为主。

3 AI 驱动光芯片长期向好,三大亮点铸就企业坚 实壁垒

对于源杰科技而言,在 AI 的持续催化下,公司有望迎来以高 速数通侧产品放量为核心表征的时代,第二成长曲线顺利开启。 我们认为,其成长逻辑主要体现在以下几个方面:

3.1 要点一:研发流程规范,技术壁垒雄厚,分散化客户 服务推动公司稳步成长

源杰科技的研发模式呈现系统化、成熟化特点,助力技术优 势的形成。公司产品研发历经从立项至批量过程验证测试优化 (PVT)六大阶段,流程体系化明确,其主要特征如下: 1)立项阶段:市场与销售部根据客户及市场需求,提出新项 目立项申请,项目评审通过后,指定项目负责人制作项目可行性 分析; 2)设计输入输出阶段:制作设计开发阶段指导文件及流程, 包括产品技术参数、工艺指导文件、结构设计、工艺流程设计、 环保分析、研发过程失效分析及对应的控制措施等。 3)工程验证测试阶段(EVT):针对产品特性与工艺生产异 常关闭率进行评审; 4)设计验证测试阶段(DVT):针对产品稳定性与异常关闭 率进行评审; 5)研发转生产培训考核阶段:研发部提供给生产与运营部相 关资料,包括输出工艺标准指导书、工单、参数对照表、质检标 准、标准工时统计表、试生产任务单等,并根据需求对生产线相 应的人员进行培训与考核; 6)批量过程验证测试优化阶段(PVT):评估产线产能、管 理投入设备并分析人员、安全和环境等因素,确认具备量产能力 后,制定并组织实施生产计划,投入资源进行批量验证与测试。

三大平台集聚,多项技术实现突破。公司已形成了“掩埋型 激光器芯片制造平台”“脊波导型激光器芯片制造平台”“光放大 器集成芯片制造平台”三大平台,并在多年研发及产业化中积累 了“小发散角技术”“ 集成式光芯片高可靠性技术”“大功率激光 器高可靠性技术”“高速激光器芯片的封装技术”等相关技术。

由于 20年 4 月中际旭创收购储翰科技 67.19%的股权,储翰科 技、苏州旭创与成都旭创成为同一控制主体。在已明确客户的 2019-2021 年期间,我们判断源杰与中际旭创的合作体现在储翰科 技这个关键节点上。同时,从 23 年公司客户的分布来看,第一大 客户出货占比仅 17.77%,前五大客户仅合计为 55.91%。

3.2 要点二:产能供应持续充足,产销水平有望稳步向好

我们认为,公司业绩扩张的关键在于是否可维持高水平的产 能利用及产销水平。从公司的生产模式来看,产品线安排以市场 需求为根本,公司首先根据年度销售策略进行产能评估,生产与 运营部再根据客户订单协调相关部门的生产计划,以适时提前备 货应对需求高峰,并灵活调整产品结构。 回顾历史,公司产能利用率与产销率变动存在一定差异性。 2020 年,公司 10G、25G 产品生产规模扩大,而低速率 2.5G 产 品生产减小,库存周转随之加快,导致产销率提高,但由于生产 受到疫情影响,产能利用率显著降低;2021 年,公司加大对 2.5G 1490nm、10G 1270nm 等产品的生产备货,产销率同比下降,产 能利用水平回升;2022 年 H1,受到新厂房施工以及设备调试等因 素影响,公司整体产能利用率下降,而其产销率则因下游光纤接 入、IDC 客户采购节奏的放缓而受到一定负面影响。我们认为,伴 随未来高速数通侧光芯片放量的开启,公司于24-26年产销率有望 进一步攀升;并受益于公司合理的生产运营模式,产能利用水平 有望稳步改善。

生产建设逐步推进,研发投入日益显著。在 50G 光芯片产业 化建设项目中,源杰于 23 年投入约 521.14 万元,累计投入进度达 28.32%,预计 25 年 12 月达到预定可用状态。从 23 年产品经营来 看,源杰 50G 产品已小批量发货,100G 产品研发进展顺利,已处 于客户验证阶段,高速率产品放量未来可期。在研发中心建设项 目中,公司 23年投入约 1784.70万元,累计投入进度达 16.96%, 预计 26 年 12 月达到可使用状态,用于对高功率硅光激光器、激光 雷达光源等产品进行前瞻性研究并实现成果转化。

3.3 要点三:光通信需求旺盛,IDM 筑企业成长基石

1)短期来看,800G/1.6T 光模块将对光芯片提出较大要求。 800G 方面,中际旭创表示,23 年受到 800G 光模块需求 不断上修的影响,常规 DSP、EML 和 VCSEL 均出现供应 紧张的情况。由于 24-25 年新用户的不断出现,800G 光 模块需求有增无减,或继续催生光芯片的供应紧张问题; 1.6T 光模块方面,中际旭创预计将于 24 年 H2 开启小批 量生产,并于 25 年实现规模上量;新易盛也已于 23 年推 出 1.6T 光模块产品,积极推进客户送样测试,下游厂商 的扩产扩能为近 1-2 年内公司业绩提供有力支持。 2)长期来讲,数据互联互通提速成为光模块/光芯片稳定成 长的重要基石。Marvell 指出,ChatGPT 3.0 的 XPU 与光 模块需求比仅为 1:2;而 ChatGPT 4.0 中 XPU 与光模块 需求比则上升至 1:3,反映出数据处理与数据互联迭代能 力成长的显著差异性。随着未来更复杂的AI大模型推出, 可以预见的是,10 万甚至百万级规模的 XPU 集群有望成 为常态。Marvell 预计 10 万级 XPU 集群将需要五层交换 技术,共对应 50 万个光学互连,XPU 与光模块需求提升 至 1:5。配比量的显著提升揭示了公司产品长期放量的内 在逻辑演绎。

高速率光模块对光芯片需求助推显著。以 800G 光模块为例, 典型技术解决方案演进包括三代: 1)8 光 8 电:光接口 8x100Gbit/s,电接口 8x100Gbit/s;2)2 光 4 电——光接口 8x4Gbit/s , 电接 口 200x8Gbit/s; 3 )3 光 4 电 — —光 接口 4x4Gbit/s,电接口 200x8Gbit/s。未来 3 年内的维度来讲,单通道 200G 光电芯片组件和均衡技术尚未成熟,预计 50G/100G 为代表 的高速率光芯片依旧为业界首选;3-5 年内单通道 200G 光电技术 有望得到广泛采用。

产品升级逻辑直接催生单品价值量的成长。事实表明,光芯 片在光模块整体成本中占比随着传输速率的提升而增大,速率上 的提升对光芯片价值量的增长促进作用是巨大的,以德科立为例, 其采购的光芯片单价于 2018-2021H1 期间上涨近 7 倍。 光/电芯片存在显著差异,IDM 模式成为光芯片主流选择。与 电芯片在制造工艺上更侧重于光刻工艺追求先进制程不同,光芯 片性能的提升不完全依靠尺寸的减小,更注重外延结构设计与生 长,外延生长为技术壁垒最高的环节,对材料的理解、工程制造 能力、对光电特性的理解、对设备的理解构成了芯片工艺的核心 竞争壁垒。光芯片的生产工艺流程可以分为:芯片设计-外延生长晶圆制造-芯片加工与测试四大环节。由于光芯片在工艺层面标准 化程度较低,IDM 模式生产优势愈发突出,产业龙头仕佳光子、 长光华芯、源杰科技均选择该类模式进行生产。

多生产线全覆盖,制造链条经验丰富。经过多年研发与产业 化积累,源杰科技已建立了包含芯片设计、晶圆制造、芯片加工 和测试的 IDM 全流程业务体系,拥有多条覆盖 MOCVD 外延生长、 光栅工艺、光波导制作、金属化工艺、端面镀膜、自动化芯片测 试、芯片高频测试、可靠性测试验证等全流程自主可控的生产线。 同时,公司拥有自主知识产权的晶圆外延技术,通过将芯片设计 与外延工艺相结合,借助快速研发迭代缩短研发周期,完成了大 功率激光器芯片技术的开发。

3.4 要点四:硅光技术尚处蓝海,高速光芯片开启放量

硅 光 芯 片 有 望 迎 增 长 拐 点 , 市 场 占 比 迅 速 攀 升 。 根据 Lightcounting 预测,硅光芯片销售额将从 2023 年 8 亿美元增长至 2029 年的约 30 亿美元,同时采用铌酸锂薄膜(TFLN)调制器的 PIC 销售额将从现在近 0 的市场规模增长至 2029 年预计的 7.5 亿 美元,而传统 DWDM 光模块所使用的块状 LiNbo3 调制器销售额 将持续下降。

相比于传统可插拔光学元件,CPO 封装技术更适应降本增效、 低能耗的新时代需求。材料方面,硅材料适合大规模集成,其工 作温度宽、散热性能好、性能稳定,有致密的氧化物钝化层;工 艺制作方面,硅集光电子集成芯片晶圆尺寸大、单颗芯片成本低, 其制程线宽小,直接进入 130nm/90nm/45nm,可利用成熟的硅半 导体代工供应链与 CMOS、SiGe 等产业共享产能;提质增效方面, 由于 CPO 封装技术将芯片更紧密的堆叠在一起,芯片间间隙大幅 减小,从而节约布线面积和印刷版面积,促进成本降低,同时 CPO 的高集成特征使得芯片间通信速度更迅速、更直接,系统速 度和响应时间有所提振;功率能耗方面,CPO 也同样受益于更高 的电路密度与更优良的热管理属性,可在同一区域内实现更高的 功率密度。

硅光技术尚未成熟,发展面临多重挑战。硅光子集成技术要 求将激光器芯片发射光源耦合到硅基材料波导中,但普遍存在不 同材料间光源的耦合效率低、光传输损耗较大的问题,开发难点 集中于有源区的量子阱设计、外延生长技术及芯片谐振腔几何结 构的设计等方面。 难点开发实现突破,CW 光源产品长期向好。公司通过在结构 设计与理论仿真、晶圆外延工艺和光波导设计、光栅设计、大功 率芯片测试与可靠性评估四大方面完成难点开发,成功研制出高 可靠性的 25/50/70mW 大功率激光器芯片,目前仅海外少数厂商能提供相关产品。目前公司CW光源客户端测试顺利,第二季度已 进入小批量生产出货阶段,预计 H2 会对公司业绩带来实质性增长。

高速光芯片产品推出,公司发展具备技术保障。公司已在电 吸收调制器集成技术方面实现重大突破,可分别设计发射光源区 与调制区的晶圆量子阱结构,并在光波导光路计算与仿真、异质 波导有源区外延工艺技术开发等方面完成技术提升。目前公司已 经设计定型 100G PAM4 EML 激光器芯片,并初步完成 200G PAM4 EML 的性能研发及厂内测试,为公司长期发展提供技术保 障。 国外厂商占据主导,国际市场竞争值得关注。目前公司潜在 面临的国际竞对有 II-VI、博通、Lumentum、Neophotonics、三菱 电机、住友电工等,国内竞对有云岭光电、武汉敏芯、中科光芯、 仕佳光子、长光华芯等。我们认为,随着未来公司光芯片在数通 侧的长期放量开启,国际市场舞台将尤为关键,应密切关注国外 厂商的产品动向。

4 电信市场加速回暖,5G-A 带来边际新变革

4.1 PON 网络稳步成长,行业龙头受益于用户扩容

三大基础硬件构建 PON 网络核心,源杰产品下沉直面 H 端客 户。光接入网络以光替代铜为传输介质,常直接用于面向家庭单 元,其主要由光线路终端 OLT、光网络单元 ONU/ONT、光分配网 络 ODN 三部分组成。OLT 用于连接光纤干线的终端设备;在 OLT 上可以实现网元管理、安全管理、配置管理和带宽分配;ODN 是 基于 PON 设备的光缆网络,为 OLT 和 ONU 提供光传输通道; ONU 是光网络中的用户端设备,提供数据、IPTV(即交互式网络 电视),语音(Integrated Access Device 综合接入设备)等业务。 我们认为源杰科技的 PON 光芯片常用于 OLT、ONU 设备中,其 具有贴近 H 端(家庭端)客户的属性,直接受益于用户端网络的 扩容需求。

论证 PON 网络下光芯片市场规模增长是否有可持续性,可根 据以下两项指标进行分析: 1)用户端数量:互联网宽带接入端口数呈持续增长态势,光 纤接入端口占比同步扩大。截至 23 年底,互联网宽带接入端口数 达 11.4 亿个,同比增长 6.54%;光纤接入(FTTH/O)端口达 10.98 亿个,占比由 22 年底的 95.7%提升至 96.3%,同比增长达 7.21%。同时网速升级也同样加快推进,千兆网络服务能力的 10G PON 端口数达 2302 万个,比上年末新增 779.2 万个。

2)FTTx 光模块使用量:FTTx 光纤接入是光模块用量最多的 场景之一,其光模块使用量可一定程度下反映光芯片的用量规模。 根据 LightCounting 市场研究机构数据,预计 2020 年至 2025 年全 球 FTTx 光模块市场出货量从 6289 万只增长到 9208 万只,年复合 增速将达到 7.92%;市场规模从 4.73 亿美元增长至 6.31 亿美元, 年复合增速为 5.93%。预计 FTTx 从 24 年开启回暖步调,物联网 IoT 设备起步叠加先进网络战略兴起,有望实现光模块及光芯片在 电信侧增速的回升。

三大因素助力成长拐点有望形成,PON迎来发展第二春。1) 带宽容量增长、低延迟、降低抖动和改善体验质量(QoE)依然 是促进光纤接入的主要因子;2)企业、政府和垂直行业带宽需求 开启增长,医疗、银行、交通、能源和公用事业等领域开启放量, 我们认为下游应用场景呈现扩大化特点;3)云业务催生更为庞大 的数据互联带宽需求,直接催化对光纤接入的需求。 从公司-行业、由下至上角度来看,源杰科技市占率高,为行 业 Beta 扩容的主要受益方。根据 ICC 数据,在全球 21 年 2.5G 及 以下 DFB/FP 激光器芯片市场中,武汉敏芯、中科光芯、光隆科技 在全球市场占比均超过 10%,源杰科技则占据 7%的市场份额。 10G 光芯片方面,根据 ICC 统计,2021 年全球 10G DFB 激光器 芯片市场中,源杰科技市占率达 20%,而住友电工市场份额仅 15%。

4.2 5G-A 带动发展新潮,光通信重要性显著抬升

5G 时代下,基站结构显著改变,光通信确定性增加。当前的 无线通信网络中,除了“最后一公里”是“无线”形态,天线之 后的通信链路全为光纤网络。首先,5G 基站承载网将原有的 4G BBU、RRU 重新拆分为 AAU、DU、CU 三级结构, BBU 设备对 应分拆为 DU 与 CU 设备,AAU 与 DU 间协同构成前传,DU 与 CU 设备间构成中传,CU 与骨干网间构成回传。 5G 网络架构中,各层设备间依赖光纤与光模块进行互联,光 模块用量大大增强。5G 前传共有 4 种解决方案,不同解决方案对 应不同类型光模块需求。此外 5G 基站所采用的三级架构相比 4G 基站的二级架构增加了一层光传输环节,导致光端口数量显著增 加,光芯片/光模块用量显著提升。同时,为了满足 5G 更高的速率 与低时延指标,各级光传输节点之间的光端口速率提升明显,光 芯片传输速率同步跟进。

前传、回传聚焦 25G 光芯片生产。1)前传光模块用于基站末 端与发射天线间的信号处理,采用包括 25G 1310nm DFB 激光器 芯片;2020 年后运营商新采用多波长方案,主要使用 25G CWDM 6 波段、MWDM 12 波段、LWDM 12 波段 DFB 芯片,节省大量光 纤资源。2)回传网络对 50G PAM4 光模块产生新需求,基于 25G 光器件以及 PAM4 调制格式,50G 光模块可形成低成本的实现方 案,在 10km 传输距离的规格下,该种光模块可用 25G 波特率直 接调制激光器实现。主流供应 25G EML 激光器芯片的国外企业有 三菱电机、住友电工、朗美通(Lumentum)等。

5G 硬设备仍在扩展进程中,5G-A 助力又一新增量诞生。根 据国际标准组织 3GPP 的定义,从 5G 到 6G共存在 R15 到 R20 六 个技术标准。其中 R15 到 R17 作为 5G 标准的第一阶段,R18 到 R20 作为 5G 标准的第二阶段。2021 年 4 月,5G 国际标准制定组织 3GPP 已正式将 R18 协议版本定义为 5.5G,标志着 5G 演进的 需求已经成为业界共识。5G-A 新增 UCBC(上行超宽带)、RTBC (宽带实时交互)和 HCS(通信感知融合)三大应用特征,并带 来四大方面显著升级:1)5.5G 通过利用超大带宽频谱—— Sub100G 频谱,可实现 10Gbps 的下行速率。2)5.5G 可利用上 下行解耦、多频段融合技术实现上行 1Gbps。3)Redcap、NBIOT、无源物联三大类技术有望依托无线产业的规模效应实现商业 化落地。4)5.5G 内生智能可实现业务智营、网络智优、运维智简。

5G-A 应用新场景陆续推出,光硬件设备有望广泛受益。我们 可以通过如下案例对 5G-A 应用场景的扩展进行直观解释:在 mMTC 方面,万华化学集团使用基于 RedCap 的无线摄像头,省 去了传统有线摄像头所需的挖沟、放缆的工作,画面流畅度和清 晰度没有任何损失,综合成本降低了 60%以上;杭州奥朗作为从 事医疗信息化的企业,与华为合作广泛运用RedCap技术,对现有 的医院进行医疗专网建设,满足数据采集,视频回传,护理以及 后勤服务需求,节省了布线工作量和成本。另一新增应用场景 uRLLC 方面,长城精工开启“5G-A+工业互联网”的试点验证, 联合中国联通、华为、勃敖,一起探索在工厂的生产控制核心层, 引入 5G 通信,实现无线对有线的替代,对总线标准多样化导致的 信息孤岛、工厂设备排查故障难、施工周期长等痛点进行有效处 理。我们认为,相较于 5G,5G-A 在与智能制造、工业物联的联 结方面显现出更大的商业应用优势,这有望显著催化对光通信硬 件设备的需求。

我们认为除应用场景的扩展外,5G-A 对光芯片/光模块的正向 催化作用还集中体现于两大方向上:1)相比 4G,5G/5G-A 为了 增强数据传输功效通常使用高频段资源,而高频段电磁波穿透力 较差,导致信号覆盖范围明显缩窄,从而大大增加基站及光通信 器件使用量;2)5G-A 提出更高的上行/下行速率需要,推动光通 信传输性能同步提升。

4.3 激光器芯片升级加剧,研发优势铸就企业α

低端芯片高度国产化,产品差异巩固公司市占率。在电信市 场中,目前所需的 2.5G、10G 激光器芯片市场国产化程度较高, 但不同波段产品应用场景不同,工艺难度差异大,公司凭借长期 技术积累实现激光器光源发散角更小、抗反射光能力更强等差异 化特性,为光模块厂商提供全波段、多品类产品,同时提供更低 成本的集成方案,实现差异化竞争。 小发散角技术实现差异化竞争。公司小发散角技术完成以下 难点开发:①光斑转换器(SSC)光波导设计与仿真;②光斑转 换器光波导工艺制作与开发。公司凭借该技术,以光在波导的传 输行为理论为基础,开发出于有源区以外的光斑转换器结构制作 技术,在不牺牲芯片性能前提下实现小发散角的功能。公司将该 技术应用于各类激光器芯片中,在同类产品实现了差异化竞争, 并降低模块厂商对进口组件的依赖,有助于解决大规模光网络部 署的供应链安全及成本问题。 抗反射技术降低封装成本、减少进口依赖。公司抗反射技术 完成以下技术突破:①抗反射光损耗波导设计与仿真;②反射光 损耗波导外延工艺制作与开发;③芯片级反射光测评系统搭建与开发。公司凭借该技术,成功开发出有源区出光端集成反射光损 耗波导结构制作技术,将隔离器功能集成于芯片结构中,实现激 光器芯片对系统造成的反射光不再敏感。下游模块厂商在使用公 司这类芯片进行模块生产时,可以减少使用昂贵的进口隔离器, 降低了封装成本,以及对进口器件的依赖。 芯片速率演进加速,公司积极备战下一轮发展高峰。未来 25G/50G PON 接入网对光芯片的要求也将进一步提升,大功率、 低色散、高速调制的场景需求提升了光芯片的技术门槛,公司已 开发相应的集成技术与光放大器集成技术平台,适配高速接入网 的需求,使公司的 PON 光芯片产品具备更强的市场竞争力,进入 下一代高速需求的迭代过程。

电信侧产品矩阵现结构性变革,DFB 向高价值 EML 迈进。在 光纤接入领域,公司研发并向客户送测差异化方案的 10G DFB 产 品,对 10G EML 产品进行持续优化提升。面向下一代 25G/50G PON 光纤网络,公司研发并向客户送测相关的 ONU 及 OLT 端光 芯片产品。


(本文仅供参考,不代表我们的任何投资建议。如需使用相关信息,请参阅报告原文。)

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