光刻胶行业深度研究:半导体材料皇冠上的明珠,迎来国产化机遇.pdf

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  • 时间:2021/05/31
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光刻胶被称为半导体材料皇冠上的明珠:全球半导体技术持续进步背后是光刻工艺持续迭代驱动的摩尔定律,缩短曝光波长主要是通过在光刻机等核 心设备和光刻胶等核心材料的不断进步来实现。光刻胶及其配套化学品占半 导体材料产值 12%,行业技术壁垒和客户壁垒高,目前主要被日本、韩国和 欧美国家垄断,特别是 ArF 浸润式(28nm 及以下)以及 EUV 等关键节点。
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