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光刻技术背后的投资机遇分析：另辟蹊径探索国产半导体产业链。国产半导体技术突破，未来可期。华为 Mate 60Pro 手机发行受到市场的广 泛关注。TechInsights 的拆机实验发现华为或在此款新手机或搭载了国产 7 纳米制程工艺的逻辑芯片。我们认为，华为使用国产 7 纳米制程逻辑芯片 技术主要归功于国产半导体产业链突破了 DUV 光刻机从两次曝光到多次曝 光条件下良品率和生产率的瓶颈问题。相较于境外半导体产业链目前普遍 使用 EUV 光刻机制造 7 纳米工艺制程芯片，国产半导体产业链另辟蹊径， 成功取得技术上的进步。我们看好半导体产业链国产化的趋势，但是有别 于市场上部分着重看好光刻机或是半导体制造公司的观点，我们通过深挖 不同半导体制造技术原理，强调半导体沉积和刻蚀设备在多次曝光中的重 要作用。我们认为，国产 7 纳米制程工艺的突破或将增加包括刻蚀和沉积 在内的半导体设备的需求。

国产半导体制程升级技术路线利好刻蚀和沉积厂商，关注国产替代半导体 设备龙头。我们认为，相比较境外厂商的技术路线，国产半导体产业链或 在一段时间内依赖 DUV 配合多次曝光的技术路线。相较 14/16 纳米制程工 艺，7 纳米制程工艺所需要的沉积和刻蚀工序数量或将增长 50%-67%。我 们预测全球沉积和刻蚀设备在半导体设备价值量的占比将从 2022 年的 43% 增加到 2026 年的 54%，并预测内地半导体设备销售额或将继续增长。我们 对比了内地和境外半导体技术路线在 7 纳米制程之后的区别，并通过参考 历史上半导体制程的技术分布变化，预测国产半导体制造公司就工艺制程 一项在 3 年时间或对沉积和刻蚀的需求 (2025 年相对 2022 年) 增长 66%， 对应 18.3%的 CAGR。我们建议投资者关注半导体设备国产替代背景下，国 产刻蚀和沉积设备厂商中微公司（688012 CH）和北方华创（002371 CH）。

短期内形成产业闭环是关键。与大部分研究展望推算国产更先进半导体工 艺制程不同，我们强调国产半导体产业链拓展下游7纳米应用市场和客户， 从而形成产业生态闭环的重要现实意义。我们认为多次曝光理论上可以继 续推进国产半导体产业的制程工艺。但随之而来的良品率和生产率的挑战 或影响国产更先进制程的经济效益，产能爬升尚需时间。对比境外半导体 产业经验， 我们认为，国产 7 纳米制程尚未形成有效规模。我们建议投资 者关注 7 纳米在不同下游应用的扩展情况。

刻蚀和沉积设备在 EUV 时代或依然有较高需求。长期看，我们认为多次曝 光作为光刻机升级换代之间提升半导体工艺的关键技术，其所需的刻蚀和 沉积设备的需求或将长期保持高位。国产 EUV 光刻机的研发可见度还较 低，从长期看，考虑到成本、生产率和良品率等因素，我们认为 EUV 或仍 将是国产产业链挑战先进制程的重要环节。EUV 加多次曝光已是境外半导 体产业链 3 纳米制程工艺的主要技术。我们因此认为即便国产 EUV 研发成 功，也不应该是刻蚀和沉积设备的需求长期向好的风险。