ALD 技术领军企业,聚焦光伏与半导体。
1.专注 ALD 技术,拓展应用领域
微导纳米成立于 2015 年 12 月,2022 年 12 月在科创板上市。公司主要从事先进微、 纳米级薄膜沉积设备的研发、生产和销售,向下游客户提供先进薄膜沉积设备与相关改 造服务及备品备件。 公司以 ALD(原子层沉积)技术为核心,主要应用于光伏和泛半导体领域。公司 成立后即开始原型机的研发,一代量产机型 KF4000 于 2017 年中开始试量产,全球首创 将 ALD 技术规模化应用于光伏领域,PECVD 设备、PEALD 二合一平台设备自 2021 年 开始实现销售。公司于 2018 年启动半导体及柔性电子领域 ALD 的设备研发,在半导体 领域,公司是国内首家成功将量产型 High-k 原子层沉积设备应用于 28nm 节点集成电路 制造前道生产线的国产设备公司,正式进军逻辑芯片、先进存储、3D-IC 等镀膜制造领 域。
股权结构稳定,实控人为王燕清家族。截至 2022 年 12 月,万海盈投资直接持有公 司 23,258.1624 万股股份,占公司总股本的比例为 51.18%,为公司控股股东。王燕清、 倪亚兰、王磊组成的家族通过万海盈投资、聚海盈管理、德厚盈投资间接控制公司 60.60%的股份,同时王燕清之子王磊担任公司董事长、王燕清之妻倪亚兰担任公司董事, 王燕清家族为公司的实际控制人。截至 2022 年 6 月 30 日,公司不存在控股子公司及分 公司,参股公司 1 家为芯链融创。
管理层从业经验丰富,技术团队对行业理解非常深刻。王燕清家族作为公司实际控 制人,于 2002 年创立无锡先导智能装备股份有限公司。先导智能主要从事锂电池、光 伏、3C 等智能装备的制造。公司董事、副董事长兼首席技术官黎微明自 1994 年开始 ALD 技术工作,是全球第一批将 ALD 技术用于半导体领域的科学家之一。公司其他高 管也都从业多年,专业能力强,技术与管理经验丰富。对行业独到深刻的理解有助于公 司未来发展,为公司继续保持竞争优势和龙头地位奠定基础。
2. 光伏与泛半导体领域已取得广泛应用
ALD 是一种特殊的真空薄膜沉积方法,技术壁垒较高,性能独特。薄膜沉积是指 在基底上沉积特定材料形成薄膜,使之具有光学、电学等方面的特殊性能。ALD 技术 通过将气相前驱体脉冲交替地通入反应室并在沉积基底上发生表面饱和化学反应形成薄 膜。ALD 镀膜设备可以将物质以单原子层的形式一层一层沉积在基底表面,每镀膜一 次/层为一个原子层,根据原子特性,镀膜 10 次/层约为 1nm。ALD 拥有多项独特的薄 膜沉积特性,如三维共形性、大面积成膜的均匀性、致密无针孔、实现亚纳米级的薄膜 厚度控制。

薄膜沉积设备按照工艺原理的不同可分为 PVD、CVD 和 ALD 设备。相比于 ALD 技术,PVD 技术生长机理简单,沉积速率高,但一般只适用于平面的膜层制备;CVD 技术的重复性和台阶覆盖性比 PVD 略好,但是工艺过程中影响因素较多,成膜的均匀 性较差,并且难以精确控制薄膜厚度。
公司产品主要应用领域一:光伏领域。在光伏领域公司已覆盖包括通威太阳能、隆 基股份、晶澳太阳能、阿特斯、天合光能等在内的多家知名太阳能电池片生产商。从 PERC 进一步向 TOPCon 乃至 HJT/IBC 技术延伸。
公司产品主要应用领域二:半导体领域。公司 ALD 设备凭借原子级别的精确控制 及沉积高覆盖率和薄膜的均匀性,制备的高 k 材料 HfO2 较好的满足了 28nm 逻辑器件 制造过程的需要。除此之外,公司 ALD 设备沉积的 HfO2、ZrO2、La2O3 以及互相掺杂 沉积工艺可用于新型存储器如铁电存储(FeRAM)芯片的电容介质层,沉积的 Al2O3、 TiN、AlN 可用于化合物半导体、量子器件的超导材料导电层等,上述应用均已完成客 户的试样测试并签署订单。
除了光伏和半导体领域外,公司还拓展了柔性电子等其他领域的应用。公司自主开 发的 FlexGuard(FG)系列卷对卷原子层沉积镀膜系统主要在 OLED 等先进显示技术的 柔性电子材料上进行真空镀膜,已实现产业化应用。
公司主营业务收入以专用设备为主,2022 年前三季度占比超 93%。另有一些 设备改造业务,2021 年度设备改造业务增幅较大,其业务规模受光伏电池硅片大尺寸化趋势、公司臭氧工艺的推广以及新工艺开发及应用情况等因素影响。 公司专用设备以 ALD 设备为主。2019、2020 年公司专用设备收入均为 ALD 设备,2021 年后,公司 PECVD 设备、PEALD 二合一平台设备等新产品占比增长 迅速,且受向 N 型电池片的产能布局节奏影响,公司 ALD 设备的出货占比下降, 随着 TOPCon 产能扩产,ALD 设备订单再次快速起量。 截至 2022 年 9 月末,公司已取得在手订单 19.75 亿元,其中专用设备在手订 单合计 18.56 亿元,专用设备在手订单中毛利率较高的 ALD 设备的占比为 85.66%。
3.营收高速增长,规模效应有望带来利润加速提升
公司近年来营收呈增长态势,但净利润水平有所波动。2021 年度和 2022 年前三季度公司营收分别为 4.28 亿元、3.85 亿元,同比增长 36.91%、66.8%;归母净利润分别为 4,611.37 万元、-325.47 万元,同比下降 19.12%、115.83%。 2019-2021 年公司总营收 CAGR 为 40.81%。公司主营业务收入不断增长主要原因是: 1)光伏行业总体需求不断增长。2)公司产品匹配电池生产技术发展方向,推出符合市 场需求的高性能产品。公司解决了传统 ALD 技术速率慢的不足,提升单台设备产能和 效率,并推出适用 TOPCon 等新型高效电池的产品。同时公司还提供尺寸改造、工艺改 造等服务。3)除了光伏领域外,公司的 ALD 设备已在逻辑芯片 28nm 先进制程生产线 中实现突破,并持续推进在半导体及其他细分领域的应用。 公司 2020 年起营收增长,但因费用金额上升,净利润有所波动。2022 前三季度公 司出现亏损,主要系上半年我国新冠肺炎疫情呈多点散发情形,尤其是 2022 年第二季 度无锡及周边地区客户现场工作受到影响,导致营业收入较上年度同期略有下降。同时 公司扩充了管理、销售、研发等人员,并提高了相关投入,期间费用较上年度同期大幅 增长。

近年来公司毛利率与净利率略有下降,主要系期间费用率上升且专用设备毛利率有 所下降。2021 年度和 2022 年前三季度,公司销售毛利率分别为 45.77%、37.11%;销售 净利率分别为 10.78%、-0.85%。毛利率下降主要由于产品收入结构改变,2021 年公司推 出了 PECVD 设备、PEALD 二合一设备,由于产品推出初期先在 PERC 技术路线上进行 推广,与已存在成熟的方案竞争,两款产品 2021 年和 2022 年上半年毛利率均低于 20%。 公司根据已有订单测算,在 TOPCon 技术路线上推出的 PECVD 设备与 PEALD 二合一 设备的毛利率均在 35%以上,未来该产品毛利率预计将有提高。且 2022 年上半年 ALD 设备运用于半导体领域毛利率高于 50%,半导体收入的增长也将带动毛利率回升。 公司期间费用率高,研发费用率逐年上涨。2021 年度和 2022 年前三季度期间费用 率分别为 37.06%、39.88%;研发费用分别为 9,704 万元、9,354.58 万元;研发费用率分别 为 22.68%、24.29%。期间费用率上升主要是由于公司加大人才引入力度和产品应用领域 拓展,导致投入增加、费用上升。随着公司业绩快速增长,规模效应不断显现,公司的 期间费用率有望步入下行通道。