金刚石散热:AI芯片热管理高效方案,金刚石铜规模化应用在即

  • 来源:浙商证券
  • 发布时间:2026/06/30
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金刚石散热行业深度报告:金刚石散热,AI散热高效方案,金刚石铜规模化应用在即.pdf

本报告为金刚石散热行业深度报告,核心观点如下:1.散热瓶颈凸显:热管理成为制约AI芯片性能的核心瓶颈,约55%电子设备过早失效由温度引起。金刚石材料高热导率(1000-2200W/(m·K))优势显著。2.金刚石铜率先落地:金刚石铜复合材料凭借成本、热膨胀系数匹配度及制备工艺优势,有望率先规模化应用。2026年,联想、曙光数创、英伟达等场景已实现或计划采用金刚石铜散热方案。3.市场空间广阔:预计2029年全球AI芯片领域金刚石铜市场空间达65亿美元,2025-2029年复合增速237%。主要应用包括AI服务器、光模块、5G通信等。4.竞争格局:全球市场由日企ALMT主导,国内企业如国机精工、斯...

散热瓶颈与材料优势

随着算力芯片功耗的持续提升,热管理已成为制约芯片性能的核心瓶颈。数据显示,约55%的电子设备过早失效由温度问题引起,器件温度每升高10°C,失效率翻倍,寿命减半。在此背景下,金刚石材料凭借其高热导率(高达1000-2200W/(m·K),是铜的5倍、硅的13倍以上)等优势,成为AI芯片热管理的高效解决方案。

金刚石散热材料主要分为纯金刚石和金刚石复合材料两大类。纯金刚石包括单晶和多晶金刚石,其中单晶金刚石热导率可达2000-2200W/(m·K),多晶金刚石为1000-1800W/(m·K)。然而,纯金刚石制备难度较高,成本昂贵。相比之下,金刚石复合材料如金刚石铜、金刚石铝等,在成本控制和热膨胀系数匹配度方面更具优势。

金刚石铜:规模化应用的首选

在众多金刚石复合材料中,金刚石铜有望率先实现规模化应用。相较于单晶/多晶金刚石,金刚石铜在材料成本上更低,且其热膨胀系数可通过调节金刚石和铜的比例,更好地与半导体材料(如硅、砷化镓)匹配,减少热应力。相较于金刚石铝和金刚石碳化硅,金刚石铜具有更好的可加工性和更成熟的制备工艺,如高温高压法、液相熔渗法等。

2026年,金刚石铜在多个场景中开始落地。例如,联想Yoga Slim 7i Aura Edition成为全球首个规模化搭载金刚石铜散热的消费电子产品;中科院宁波材料所自研的金刚石铜散热模组配套曙光数创C8000 V3.0兆瓦级相变浸没液冷整机柜,在郑州国家超级计算中心节点机房部署,实现了芯片模组传热能力提升80%。此外,英伟达下一代Vera Rubin架构GPU也将全面采用金刚石铜散热方案。

市场空间与竞争格局

金刚石铜主要应用于AI服务器、光模块、5G/卫星通信等领域,通常直接与芯片贴合,用于热沉片、封装盖帽或电气绝缘散热基板。据测算,2029年全球AI芯片领域的金刚石铜复合材料市场空间有望达65亿美元,2025-2029年复合增速达到237%。

在竞争格局方面,全球主要厂商包括ALMT Corp、升华微电子、泰格尔等,其中ALMT占据较高市场份额。国内企业如国机精工、斯莱克、赛墨科技、瑞为新材等正在加速赶超。国机精工相关产品已在国防工业领域应用,民用领域送样;斯莱克已开发出金刚石复合材料热沉样品;四方达金刚石散热片已通过海外客户测试开始小批供货;沃尔德CVD金刚石热沉已通过客户认证。

技术难点与突破

金刚石铜制备的主要难点在于金刚石与铜不浸润,界面结合力弱,导致界面热阻大,实际热导率远低于理论值。为解决这一问题,通常采用金刚石表面金属化(如预镀Ti、W、Mo等活性元素)或铜基体合金化(掺杂Ti、B、Zr等活性元素)的方法,以改善润湿性和化学键合,提升导热性能。

编辑:流星雨
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