AI算力上游材料产业链深度解析:PCB、半导体与光通信材料升级趋势

  • 来源:西部证券
  • 发布时间:2026/08/05
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AI算力行业:AI算力上游材料产业链研究报告.pdf

全球AI大模型训练与推理需求持续攀升,算力基础设施进入新一轮扩张周期,上游材料作为产业链关键环节正迎来结构性升级机遇。本报告系统梳理AI算力上游材料产业链,涵盖PCB材料、半导体制造材料、半导体封测材料、光通信材料及其他关联材料五大板块。核心研究目的在于揭示算力升级如何驱动上游材料从"量增"向"质升"转变:一方面,AI服务器、数据中心等终端需求扩张直接拉动材料用量增长;另一方面,芯片制程迭代、传输速率提升、封装密度提高对材料的介电性能、热稳定性、纯度等级提出更高要求,推动材料单价与利润率改善。PCB上游材料方面,覆铜板用电子树脂经历四代技术跃迁,特种树脂(苯并噁嗪、马来酰亚胺、聚苯醚等)成为高...

AI算力扩张驱动上游材料需求结构性升级

2025年以来,全球大模型推理与训练需求持续拉动算力规模扩张,PCB、半导体制造、半导体封测、光通信等多个领域的上游原材料需求随之增长。与此同时,芯片制程与代际迭代加速,对上游材料的性能要求持续提升,材料升级带动单价与利润率改善的空间逐步打开。本报告从PCB上游材料、半导体制造材料、半导体封测材料、光通信上游材料及其他关联材料五个维度,系统梳理AI算力上游材料产业链的发展逻辑与升级路径。

PCB上游材料:层数增加与参数升级双轮驱动

PCB成本结构中,原材料占比约50%,其中覆铜板为最大成本项。覆铜板成本中,电子铜箔、树脂、电子布分别占比42.1%、26.1%和19.1%。随着英伟达等产品升级,下一代PCB层数和面积持续增加,直接驱动相关材料用量增长。更为关键的是,PCB板对介电常数(Dk)、介电损耗(Df)、热稳定性等参数要求升级,引发上游材料的结构性替代。

电子树脂作为覆铜板性能的核心决定因素,正经历从普通FR-4向高频高速覆铜板的四代技术跃迁。特种电子树脂包括苯并噁嗪树脂、马来酰亚胺类树脂、聚苯醚树脂等新型材料,其分子结构高度规整对称、极性基团含量低,能有效降低覆铜板的电信号损耗。覆铜板行业根据Df值将产品分为四个等级,传输速率越高对应Df值要求越低,5G通信理论传输速度10-56Gbps对应覆铜板至少需达到低损耗等级。

电子布作为覆铜板关键增强材料,正从普通电子布向特种电子布升级。特种电子布包括低Dk/Df布、低CTE布及石英玻璃纤维布,在AI服务器、数据中心、高端通信基站等场景应用广泛。全球电子布市场规模预计将从2025年的29.43亿美元增长至2030年的60.12亿美元,其中特种电子布复合年增长率达30.4%,二代低Dk/Df布2025-2030年复合年增长率更高达37.9%。

硅微粉作为功能性填料,凭借低膨胀、低损耗、高导热特性深度嵌入高端制造供应链。全球硅微粉市场规模预计从2024年的47亿美元增长至2032年的75亿美元。覆铜板领域对硅微粉的超细化、低杂质要求持续提升,球形硅微粉因适配先进封装而供给稀缺,国产替代紧迫性凸显。

半导体制造材料:晶圆扩产与先进制程双重拉动

半导体制造材料涵盖硅片、光刻胶及配套材料、电子特气、前驱体、CMP抛光材料、溅射靶材、湿电子化学品等。境内集成电路关键材料市场规模预计从2023年的1139.3亿元增长至2028年的2589.6亿元,其中制造材料占比将超过70%。

硅片作为晶圆制造第一大耗材,12英寸硅片已成为市场主流,出货面积占比从2018年的63.83%提升至2024年的76.30%。AI时代工艺制程最先进的逻辑和存储芯片均采用12英寸晶圆制造,HBM等新技术产品对12英寸硅片的消耗量达到主流DRAM产品的3倍。

光刻材料方面,境内市场规模预计从2023年的121亿元增长至2028年的319亿元。技术节点微缩、浸没式光刻技术应用、多重曝光技术推广是核心驱动因素。SOC市场2023-2028年复合年增长率达26.8%,抗反射涂层市场同期复合年增长率26.9%,KrF与ArF光刻胶市场份额预计从2023年的57%提升至2028年的71%。

电子特气全球市场预计2025年超过60亿美元,三氟化氮需求预计从2020年的3.11万吨增长至2025年的6.37万吨,六氟化钨需求同期从4620吨增长至8901吨。前驱体材料市场预计从2023年的54.4亿元增长至2028年的179.9亿元,金属基前驱体增速高于硅基前驱体。

CMP抛光材料全球市场规模预计从2025年的356亿元增长至2030年的640亿元,14nm以下逻辑芯片CMP工艺步骤可达20步以上,7nm及以下可能达到30步。溅射靶材方面,全球半导体溅射靶材市场空间预计2027年达到251亿元,显示面板溅射靶材同期有望达到399亿元。

湿电子化学品全球市场规模预计2025年达到827.85亿元,集成电路领域占比67.54%。欧美、日本企业合计占据全球市场约57%份额,国内企业在电子级硫酸、双氧水等通用品种上实现突破,但功能湿电子化学品与国际先进企业仍有差距。

半导体封测材料:封装技术演进提出更高性能要求

半导体封装材料包括封装基板、引线框架、环氧塑封料等。2024年全球半导体封装材料销售额达到247亿美元,国内市场约518亿元。随着芯片特征尺寸缩小、集成度提升,封装技术向高密度、高脚位、薄型化、小型化方向演进,对封装材料提出更高要求。

环氧塑封料作为塑封环节关键材料,需在受热后由固态转变为流动状态,包裹芯片和引线框架并在高温下固化形成保护壳。先进封装中的再布线层、穿透硅通孔、堆叠封装、凸块制作等工艺,对厚膜光刻胶、负性光刻胶、光敏聚酰亚胺等材料提出形貌、厚度、均匀性等多维度要求。该领域主要参与者以日本住友、松下、京瓷、信越化学等综合性材料厂商为主。

光通信上游材料:数据中心互联需求爆发式增长

光通信上游材料包括磷化铟、薄膜磷酸铌、四氯化硅等。AI算力规模高速扩张推动全球数据中心流量与互联需求大幅增长,光模块、光纤等硬件需求量提升,传输速率升级同步提高上游材料要求。

磷化铟作为III-V族化合物半导体材料,在光模块器件、传感器件、高端射频器件领域应用广泛。全球磷化铟衬底市场规模预计2026年达到2.02亿美元,其中光模块器件应用占比最大,2026年预计达到1.57亿美元。市场格局高度集中,Sumitomo和北京通美合计市占率达78%。

薄膜铌酸锂作为新兴材料,相比传统铌酸锂单晶具备更小尺寸、更低成本和更高集成度优势。全球薄膜铌酸锂晶圆市场预计从2025年的1.71亿美元增长至2032年的17.94亿美元,年复合增长率达40.5%,在5G通信、量子计算、光纤通信、高速数据传输领域展现较大潜力。

光纤光缆方面,数据中心用纤成为结构性亮点,2025年全球需求量预计同比增长75.9%至6960万芯公里,占总量约一成,有望于2027年突破1亿芯公里。四氯化硅、四氯化锗作为光纤预制棒核心原材料,氦气作为保护性介质和高效冷却剂,需求同步增长。对位芳纶凭借轻量化、高模量特性在光纤增强领域应用广泛,全球市场规模预计从2025年的24亿美元增长至2031年的32.5亿美元。UV涂覆材料作为保障光纤性能和寿命的关键材料,预计从2024年的4.5亿美元增长至2034年的12亿美元。

其他关联材料:MLCC、氟化工冷却液等多元受益

MLCC作为陶瓷电容器核心品类,全球市场规模预计从2025年的1050亿元增长至2029年的1326亿元。AI服务器对MLCC的用量和性能要求提升,但供给端高度集中,日本村田、三星电机、太阳诱电等前五大厂商占据约77%市场份额。

氟化工冷却液方面,随着液冷方案在AI服务器中普及,全氟聚醚、氢氟醚、氢氟烃等含氟冷却液有望放量。含氟制冷剂历经三代迭代,第四代产品因环保优势在部分发达国家推广,但价格较高。国内新宙邦、昊华科技、东岳集团、巨化股份、三美股份等企业在该领域布局。

PI薄膜作为耐高温高分子聚合物薄膜,全球电子级PI膜市场预计从2025年的约200亿元增长至2032年的343亿元。柔性显示用CPI薄膜受益于OLED渗透率提升,应用范围由手机向电视等产品拓展。玻璃基板作为下一代先进封装基板,凭借低介电损耗、高平整度、与硅接近的热膨胀系数和TGV高密度互连能力,有望成为AI芯片封装的重要解决方案。

编辑:流星雨
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