2026年中科仪公司研究报告:半导体干式真空泵国产替代龙头,募投产能释放与技术迭代共驱成长
- 来源:东吴证券
- 发布时间:2026/04/27
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中科仪公司研究报告:半导体干式真空泵国产替代龙头,募投产能释放与技术迭代共驱成长.pdf
中科仪公司研究报告:半导体干式真空泵国产替代龙头,募投产能释放与技术迭代共驱成长。中科仪:国内干式真空泵集成电路领域出货量最大,唯一实现先进制程批量应用的国产企业。中科仪作为中国科学院下属企业,长期专注于洁净与超高真空技术研发,是国内领先的半导体核心部件及真空科学仪器供应商。公司干式真空泵已满足14nm逻辑芯片及128层以上3DNAND工艺要求,在国内主流晶圆厂批量应用,出货量居国产厂商首位,并进入台积电、SK海力士等知名厂商供应链;同时为北京正负电子对撞机、上海光源等11项国家重大科技基础设施提供关键真空组件,在科研级MBE设备领域保持领先地位。公司产品广泛应用于半导体、光伏、科研等领域,具...
中科仪:深耕洁净与超高真空技术,中国半导体核心部件及大 科学装置关键设备领先者
1.1. 数十年行业积累沉淀,助力国家战略新兴产业发展和重大科技创新体系 建设
国内领先实现集成电路先进制程干式真空泵批量应用,成功打破欧美及日本企业的 长期垄断。中科仪为中国科学院下属专注于洁净真空与超高真空技术研发的企业,前身 可追溯至我国最早从事真空技术研究的科研单位之一,拥有真空技术装备国家工程研究 中心、国家真空仪器装置工程技术研究中心、国家企业技术中心三个国家级研发平台, 是我国真空技术及真空类科学仪器攻坚的主力军。公司主营业务涵盖用于集成电路晶圆 制造、光伏电池等泛半导体领域的干式真空泵,以及面向国家重大科技基础设施和科研 需求的真空科学仪器设备的研发、生产、销售及相关技术服务。截至 2025 年 12 月 31 日,公司拥有发明专利 103 项,负责或作为主要参与方起草了 13 项真空技术相关的 国家、行业及团体标准。

股权结构集中,中国科学院控股有限公司为实际控制人。截至 2026 年 4 月 10 日, 公司控股股东为国科科仪控股有限公司,直接持有中科仪 60,505,208 股的股份,占公司 总股本的 35.21%;实际控制人为中国科学院控股有限公司,通过全资持有国科科仪控股 有限公司,间接控制中科仪 35.21%的股份,能够对公司股东大会决议产生重大影响。中 科仪组织架构完善,高管团队具备深厚的行业积淀与管理经验。
1.2. 专注干式真空泵与真空科学仪器设备研发制造,产品工艺获国内领先技 术认证
公司主要产品涵盖干式真空泵与真空科学仪器设备两大系列,其中公司母公司负责 干式真空泵及真空科学仪器设备的研制生产,子公司南通中科仪主要从事干式真空泵的 生产制造及研发,子公司上海上凯仪主要从事干式真空泵的维修、保养等技术服务,子 公司广州中科仪主要从事干式真空泵的维修、保养等技术服务及相关研发。具体而言: 1)干式真空泵:客户主要为集成电路制造企业、光伏产品制造企业及相关设备制 造企业,获取订单的方式主要为招投标和商务谈判,产品销售方式主要为直销。其中, 上海华力、隆基绿能等集成电路和光伏产品制造企业系公司干式真空泵产品的终端用户, 公司与该类客户直接签署销售合同;同时,公司也向装备制造企业销售,由装备制造企 业集成本公司产品再向集成电路或光伏产品制造企业销售。 在干式真空泵领域,产品已满足 14nm 逻辑芯片及 128 层以上 3D NAND 存储器工 艺要求,在国内主流晶圆厂实现大批量应用,是唯一在集成电路先进制程清洁、中等、 苛刻三类工艺均实现批量应用的国产企业,出货量居国产厂商首位,并通过台积电、大 连 Intel、SK 海力士等国际头部客户测试验证实现小批量供货;同时产品已拓展至碳化 硅、砷化镓等化合物半导体领域并实现批量交付。 2)真空科学仪器设备:客户主要为科研院所、大专院校等科研单位,公司主要通过 招投标或商务谈判,以直销的方式获取订单。此外,由于部分科研单位通过贸易商对仪 器设备进行统一采购。 公司先后承担北京正负电子对撞机、兰州重离子加速器、合肥国家同步辐射装置、 上海三代光源、北京高能同步辐射光源、上海硬 X 射线自由电子激光装置等 11 项国 家重大科技基础设施的建设工作,是我国大科学装置关键真空部件光束线、波荡器、前 端区等的最主要研制单位,其中公司作为上海光源主要参与者,于 2013 年获得国家科 技进步一等奖。另外,公司前身成功研制了第一台国产分子束外延设备(MBE),打破 国外长期禁运,在科研用 MBE 设备研制领域居于国内领先地位。
1.3. 营收体量稳步增长,业绩波动主要受下游产业景气度与研发创新影响
营收体量稳步增长,业绩波动主要受下游半导体及光伏产业周期与研发进展影响。 2022-2025年公司实现营收6.98/8.52/10.82/12.91亿元,2022-2025年复合增长率达22.75%, 呈现稳步上升趋势,收入增长主要驱动因素包括集成电路制造国产化进程加速、公司干 式真空泵产品市场竞争力较强,销量实现快速增长。2022-2025 年公司实现归母净利润 4.98/6.00/1.93/8.44 亿元,2022-2025 年复合增长率达 19.32%,2024 年公司净利润下滑主 要系由非经常性收益(所持拓荆科技、中科信息等股票涨幅同比下降)大幅减少导致, 主营业务盈利能力实际在改善(2024 年公司扣非净利润增长 20.41%)。

以干式真空泵为主,收入来源集中且持续增长。分产品来看,干式真空泵为最主要 收入来源,真空科学仪器设备占比较小但呈上升趋势。干式真空泵收入快速增长主要得 益于中国集成电路产业资本开支扩张及供应链自主可控加速,公司产品已满足 14nm 逻 辑芯片及 128 层以上 3D NAND 工艺需求,并在主流晶圆厂实现大批量应用。真空科学 仪器设备受益于国家对基础研究的持续投入,推动相关设备采购需求增长。
销售毛利率受光伏行业景气度和集成电路市场扩张战略有所下滑,销售净利率。 2022-2025 年公司销售毛利率分别为 28.66%/33.02%/29.44%/26.78%,销售毛利率有所下 滑主要系公司综合考虑集成电路领域的整体市场发展情况以及自身市场扩张战略,为保 证市场份额,对集成电路领域主要产品型号的价格进行了调整;此外,光伏行业景气度 下行亦对公司毛利率下滑有所影响。期间费用率方面,随着业务规模的扩大,公司期间 费用逐年增长,2023-2025 年合计分别为 1.80/2.35/2.47 亿元,期间费用占营业收入比例 分别为 21.11%/21.69%/19.10%,总体稳定。
国家战略支持叠加自主化加速,半导体零部件及科学仪器领域 前景广阔
2.1. 干式真空泵:半导体与泛半导体领域的关键部件
先进制造和科研广泛依赖真空技术。与日常生活的大气环境相比,真空是指将特定 空间内的气体排出,使得该空间的气压低于一个大气压的状态。在真空状态下,单位体 积中的气体分子数大量减少,气体分子之间、气体分子与其它粒子之间的相互碰撞也随 之减少。真空环境能减少杂质渗入和干扰,实现洁净的生产和科学研究环境。生产领域, 真空环境用于避免杂质对材料和成品的污染,提升产品的质量和稳定性;科研领域,真 空环境用于避免杂质对实验数据的影响,提升实验结果的准确性与一致性。真空的上述 特性使得真空技术及真空仪器设备被广泛应用于先进制造和科研领域中。半导体、光电 器件、电子器件、薄膜制备、表面科学等不同应用场景对真空环境的要求各不相同。根 据真空压强范围不同,可将真空划分为低真空、中真空、高真空、超高真空和极高真空 等不同真空区域。

真空泵根据可工作的压强范围具体分为干式真空泵(105 ~10-1 pa)、分子泵(5~10- 6 pa)、离子泵(10-2 ~10-10 pa)等。为实现特定的真空度,需采用不同的真空泵种逐 级抽气。例如:为使工作环境达到 10-1 ~10-5 pa 的高真空度范围,需由干式真空泵(可 直接连接大气)与分子泵(不可直接连接 大气)串联工作,即先以干式真空泵作为前级 泵将工作环境抽至中低真空(105 pa-10-1 pa),之后分子泵启动将工作环境进一步抽至 目标真空度范围。
真空泵是半导体制造的关键部件。一套完整的半导体生产系统,通常主要由工艺腔 室、装载系统、晶圆传送系统、气体输送系统、设备冷却系统、设备加热系统、控制管 理系统、真空系统等构成。其中,真空系统主要由真空泵、真空阀、真空表计与真空管 道等组成,分别用于真空获得、真空检漏、真空测量。集成电路生产工艺为微观加工工 艺,任何细微的尘埃或气体都会造成工艺缺陷,并通过上百乃至上千道工序放大,影响 晶圆性能和良率。因此,集成电路生产需要高度可靠并稳定的洁净真空环境,以确保生 产过程中产品不受杂质污染或扰动的影响。集成电路产业 15 个主要工艺环节中的 11 个需要使用真空泵实现真空环境的获得,占比超过 70%。同时,随着集成电路制程逐渐 向先进工艺演进,制造的精细度和复杂度显著提升,对洁净真空环境的要求也更加苛刻, 越来越多的工序需要移入真空环境中进行,且每道工序所需要的真空泵的数量和技术要 求越来越高。例如当先进工艺演进到 7nm 时,必须使用 EUV 光刻技术,与传统光刻 技术不同的是,EUV 光刻技术必须在真空环境中才能实现。
干式真空泵作为泛半导体与科研领域实现真空环境的核心设备,处于高端制造装备 产业链关键环节。真空泵是获得、改善和维持真空的必要装置,而干式真空泵是目前半 导体和泛半导体领域主流用泵,特指泵的抽气流道(如泵腔)中不使用任何油类和密封 液体并可直排大气的泵。干式真空泵具有清洁、安全、振动小、噪声低、性能稳定等特 点,无需像传统油封式机械泵一样使用油或液体进行密封,不会在泵腔中逆流或扩散, 避免油类或腐蚀性蒸汽对生产造成的负面影响和安全隐患,能够满足半导体和泛半导体 领域对洁净环境的较高要求。干式真空泵可广泛应用于半导体、光伏、 锂电、制药等多 个领域。 干式真空泵根据机械结构可分为罗茨干泵(包含罗茨和爪型组合结构)、螺杆干泵 以及涡旋干泵等。1)罗茨干泵通常采取多级转子结构,即通过单轴连接多段转子,转子 可以是多种形式的罗茨转子或罗茨和爪型组合的转子,利用多级真空腔对气体进行反复 的压缩来提高真空泵的抽速和极限压力,是无油真空系统达到低真空、中真空、高真空、 超高真空、极高真空等所有真空区域均需使用的核心真空泵类型之一。罗茨干泵凭借优 异的真空获得性能,适用于半导体领域,也可应用于光伏等泛半导体领域,如管式 PECVD 等。 2)螺杆干泵含有采用各类型线设计(如锥形或变螺距设计)的同步反向 旋转的螺杆转子,是具有内压缩比特性的一种旋转式容积真空泵,在泛半导体领域更适 用于光伏领域的拉晶工艺。3)涡旋真空干泵主要通过两个相互错开的涡旋盘实现气体 的压缩,其结构相对简单、运行可靠, 且具有低振动和低噪音的特点,通常适用于实验 室、医疗设备以及小型真空系统。
2.2. 下游产业扩张与自主化加速,全球集成电路干式真空泵市场持续扩容
干式真空泵属于通用设备,可广泛应用于传统硅基集成电路晶圆制造、化合物半导 体晶圆制造、太阳能电池片制造、锂电池烘干、显示面板生产、生物制药、化工等多个 国民经济支柱产业,中科仪研制的干式真空泵主要面向集成电路和光伏产业。在半导体 产业自主化加速与清洁能源转型双轮驱动下,干式真空泵作为集成电路及光伏制造核心 配套设备,迎来国产替代与市场扩容的双重发展机遇。
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