2026年电子行业专题:AIPCB浪潮,关注M9材料升级机会
- 来源:上海证券
- 发布时间:2026/01/24
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电子行业专题:AIPCB浪潮,关注M9材料升级机会。覆铜板CCL:AI带来更高价值量消耗,M9材料升级,重点关注四条主线。AI带动高速材料量价齐升,上游关键材料面临紧缺。AI服务器使用的高阶CCL价值量是传统的5-7倍。一是AI服务器主板层数更多、面积更大;二是材料单价更高。AI推升行业景气度,上游高端材料面临供应紧缺,包括LowDk电子布/石英布、HVLP铜箔等产能都面临紧缺。高速CCL正向M9升级,CCL升级换代围绕四大核心材料:电子布、HVLP铜箔、电子树脂、填料。2026年Rubin预期发售,上游材料体系全方位升级,预计M9CCL将搭配高性能石英布(Q-glass),HVLP4将成为下...
市场表现:AI驱动高阶基板需求,加速CCL上游材料升级
AI需求驱动CCL产业升级。AI发展带来对于高阶CCL的需求增加,带动CCL产业升级。 CCL上游材料表现亮眼。2025年中启动以来,AIPCB各子板块全年表现亮眼,尤其是受益于CCL升级的上游材料,包括电子布、铜箔等。
覆铜板CCL:上游原材料占CCL成本约9成, AI带来更高价值量消耗
铜箔、树脂、电子布、填料等主要基材,占覆铜板成本约90%。CCL是PCB的核心原材料,PCB成本构成来看,覆铜板占比最大,占比达到PCB总成本的27.31%;从 CCL成本拆分来看,根据中商情报网,上游铜箔、树脂、玻纤布占比分别为42.1%、26.1%、19.1%。 AI主要带动高速材料需求。根据Uptogo官网资料,CCL依据高频高速性能,大致可以分为高频材料、高速材料、一般等级材料。其中,高速材料(High Speed)主要用 于服务器等领域,主要受益于AI需求。 AI带来CCL更高价值量的消耗。根据Uptogo官网资料,AI服务器使用的高阶CCL价值量是传统的5-7倍。一是AI服务器主板层数更多、面积更大;二是材料单价更高。
未来关注:M9材料升级带来机会,重点关注四条主线
M7和M8级别仍为高阶AI服务器主流,高速CCL正向M9升级。高速CCL等级一般以松下Megtron系列对标,分类为M2至M9,目前M7和M8级别仍然为高阶AI服务器 主流, M9为最高级别,将主要应用于1.6T交换机和Vera Rubin CPX平台。根据台光电董事长预估,预计2026年下半年将生产M9级CCL,CCL材料升级将成为确定性 趋势。 CCL升级换代围绕四大核心材料:电子布、HVLP铜箔、电子树脂、填料。上游材料体系的全方位升级,预计M9 CCL将搭配高性能石英布(Q-glass),HVLP4将成 为下一代主流,碳氢树脂用量大比例提升,功能性填料用量将大幅增加。 AIPCB量价齐升,AIPCB上游关键材料短缺。AI推升行业景气度,上游高端材料面临供应紧缺,包括Low Dk电子布/石英布、HVLP铜箔等产能都面临紧缺。
电子布:AI算力推动,低介电电子布迎来快速增长
高性能电子布主要指低介电(Low Dk/Df)和低热膨胀系数(Low CTE)电子布。低介电电子布,多用于AI高速服务器,达到降低板材信号损失,提升信号传输 速度的效果;低热膨胀系数电子布,也称为T-glass,主要用于高级IC载板等领域,以适应芯片极低的热膨胀系数。 AI算力快速发展,高性能电子布需求快速增长。高性能电子布产品主要应用于AI服务器。根据Business Research Insights报告,2024年全球低介电玻璃纤维布市场 规模约2.8亿美元,预计2033年将达到19.4亿美元,复合年均增速为23.8%。根据宏和科技公告测算,预计2024年低介电电子布市场需求为8000万米左右,2025年 预计市场需求为1亿米。
电子布:LDK向二代布过渡,M9搭配Q布向三代产品演进
低介电电子布正从一代布向二代布过渡,并向以Q布为代表的第三代产品演进。对标日东纺Nittobo电子布产品升级路线图,低介电电子布的技术演进可以分为三 代:1)第一代低介电产品(Low-Dk 一代),称为NE Glass;2)第二代低介电产品(Low-Dk 二代),称为NER-glass;3)第三代电子布,以Q布为代表,日东 纺也正在研发其第三代低介电NEZ Glass产品。
2026年Rubin预期发售,M9预计搭配Q布,迎来需求放量元年。芯片迭代影响材料需求,英伟达H100芯片仍然使用Low Dk一代布,GB300主要使用Low Dk二代 布,目前行业正从第一代向第二代过渡。随着2026年英伟达Rubin平台预期发售,M9级别CCL需要采用Q布以满足其介电性能要求,市场或将迎来需求放量。
HVLP铜箔:HVLP4将成为下一代主流,并向HVLP5更高等级发展
RTF、VLP和HVLP是高频高速覆铜板用的主流铜箔产品。由于趋肤效应的存在,当前高速材料上应用地粗糙度铜箔的范围越来越广,例如Mid Loss材料和Low Loss 材料采用反转铜箔(RTF);Very Low Loss材料多采用超低轮廓铜箔(HVLP);Ultra Low Loss材料中,HVLP铜箔已经成为标配。
目前HVLP已经发展至HVLP4,并向HVLP5更高等级发展。 HVLP2、HVLP3是当前市场中的主流产品,主要应用在Very Low Loss、Ultra Low Loss等级的覆铜板产 品中。根据三井金属显示,HVLP的代际演进正在向HVLP5更高等级发展。
AI服务器加速升级,预计2026年HVLP4将是下一代PCB铜箔主流。AI服务器铜箔已经从HVLP3进阶至HVLP4(粗糙度<0.8μm Rz),将成为2026年GPU、ASIC AI 的PCB铜箔主流。
填料:日系企业占据主导,球硅加速国产替代
预计2026年高速基板用球硅市场规模将超6万吨。根据联瑞新材公告显示,随着高速基板销售量的增加,按照2024-2026年HDI&高速高频覆铜板年复合增速26%,以 及填充率50%计算,预计2026年高速基板用球形二氧化硅市场规模将达到61685.97吨。
球形二氧化硅市场空间不断拓展,带动销售单价提升。球形硅微粉价格通常是角形硅微粉的3-5倍,日本同行业企业销售的高端球形硅微粉售价普遍每吨在几万至十 几万元以上。
日系企业占据主导,国产逐步打破垄断。新日铁、龙森、电化三大日系企业占据全球球形硅微粉70%市场份额,国内企业包括联瑞新材、华飞电子、锦艺新材、壹石 通等。随着国内企业相关技术的提升,逐步打破垄断实现国产替代。
联瑞新材积极扩产。联瑞新材是全球少数同时掌握火焰熔融法、高温氧化法、液相制备法的企业,正新建液相制备法球形二氧化硅3600吨/年。
报告节选:



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